[发明专利]一种高熵二硅化物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110998037.8 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN113773089B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 朱锦鹏;叶松波;王海龙;邵刚;李明亮;何季麟 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/622;C04B35/645
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 付雷杰
地址: 450001 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 二硅化物 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高熵二硅化物,其特征在于:所述高熵二硅化物是由Mo、W、Ta、V、Nb以及Si六种元素按照1:1:1:1:1:10的摩尔比合金化形成的具有C40晶体结构的单相化合物,致密度大于99.2%,维氏硬度为14GPa~18GPa,热导率为7W·m-1·k-1~11W·m-1·k-1

2.一种如权利要求1所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:所述方法步骤如下:

按照1:1:1:1:1:10的摩尔比将Mo、W、Ta、V、Nb以及Si元素对应的单质粉体混合均匀,得到混合粉体;将混合粉体装入石墨模具中,再将盛有混合粉体的石墨模具放入热压炉中,在惰性气体保护气氛下,加热至1200℃~1700℃并加压至20MPa~40MPa,保温保压60min~120min;在惰性气体保护气氛下冷却至室温,或者先在惰性气体保护气氛下冷却至≤300℃再通过对热压炉进行抽真空的方式继续冷却至室温,得到所述高熵二硅化物。

3.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:单质粉体的粒径≤45μm。

4.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:单质粉体的纯度≥99wt%。

5.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:将Mo、W、Ta、V、Nb以及Si元素对应的单质粉体加入球磨罐中,加入无水乙醇作为球磨介质,按照(5~10):1的球料比加入球磨珠,在200r/min~400r/min的转速下球磨12h~24h将单质粉体混合均匀,再除去球磨后浆料中的无水乙醇,得到混合粉体。

6.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:放置在石墨模具底部以及顶部的石墨垫片,且与混合粉体接触的表面上涂敷氮化硼粉。

7.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:热压炉中惰性气体的压强为2kPa~6kPa。

8.根据权利要求2所述的一种高熵二硅化物的制备方法,其特征在于:以5℃/min~10℃/min的速率将温度升至1200℃~1700℃。

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