[发明专利]一种RGD环肽偶联的两亲性硅酞菁光敏剂及其制备方法与用途在审
申请号: | 202110992448.6 | 申请日: | 2021-08-27 |
公开(公告)号: | CN115721712A | 公开(公告)日: | 2023-03-03 |
发明(设计)人: | 戴志飞;周一鸣;李睿 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | A61K41/00 | 分类号: | A61K41/00;A61K47/64;A61K49/00;A61P35/00;C07F7/10;C09K11/06 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 rgd 环肽 两亲性硅酞菁 光敏剂 及其 制备 方法 用途 | ||
本发明公开了一种RGD环肽偶联的两亲性硅酞菁光敏剂及其制备方法与用途。本发明在轴向对羟基苯烷酸修饰的硅酞菁的一端偶联RGD环肽,得到的两亲性硅酞菁光敏剂可以靶向整合素高表达的肿瘤细胞系,与非靶向的硅酞菁光敏剂相比,其细胞光毒性更强。而且,该光敏剂的合成路线简单,水溶性好,在水中不聚集,对高表达整合素的肿瘤细胞系有良好的光动力治疗效果,在肿瘤的光动力治疗中显示出良好的应用前景。
技术领域
本发明涉及一种两亲性的RGD环肽偶联的硅酞菁的制备方法和在肿瘤光动力治疗方面的用途,属于生物医药领域。
背景技术
酞菁是一种由氮原子桥接的四个异吲哚环的芳香族杂环。作为第二代光敏剂,酞菁在光动力治疗中具有许多优势,包括位于近红外波段的最大吸收波长(λmax670nm)和消光系数高(ξmax1×105M-1cm-1)。除了它们在光疗窗口中的强吸收外,酞菁在太阳光的强度最高的400–600nm处显示低吸收或无吸收。因此,酞菁的由于日光引起的皮肤光敏毒性相较于卟啉类光敏剂更低。除此之外,酞菁的化学结构很容易通过引入中心金属,以及轴向、外周和非外周取代基来进行修饰。这些修饰可以使酞菁的物理和化学性质得到调控,包括药代动力学和生物分布性质。但酞菁水溶性差、易聚集等问题限制了其进一步的临床应用。
RGD环肽是avβ3-整合素(一种肿瘤血管和多种肿瘤细胞表面过度表达的跨膜糖蛋白受体异二聚体)的配体,涉及的肿瘤包括肺癌、骨癌和神经母细胞瘤。虽然多肽修饰的酞菁往往具有更好的肿瘤特异性和针对肿瘤的更强的光动力治疗的疗效,但目前应用多肽去修饰酞菁的局限往往在于修饰的过程复杂,需要多步的提纯和分离,生产成本相对较高。并且选择怎样的酞菁-多肽连接体也是一个关键的问题。如何在保证靶分子修饰的同时,也不降低光敏分子的活性,同时使光敏分子具有足够的溶解性去满足临床应用的需求,是需要考虑的很重要的问题。
发明内容
本发明的目的是合成一种以RGD多肽为靶向基团的两亲性硅酞菁光敏剂,其结构如下式I所示:
式I中,R代表RGD环肽通过其上的游离氨基(-NH2)与硅酞菁轴向修饰配体上的羧基形成酰胺键连接的基团RGD环肽,n为1~100的整数。
RGD环肽是指含有精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸三个氨基酸组成的序列的环状多肽,含有游离氨基的RGD环肽包括但不限于c(RGDfK)、c(RGDyK)等,其中c(RGDfK)即cyclo(Arg-Gly-Asp-d-Phe-Lys),c(RGDyK)即cyclo(Arg-Gly-Asp-d-Tyr-Lys)。
n的取值范围优选为1~4。
式I所示的两亲性硅酞菁光敏剂可用作肿瘤的光动力治疗的光敏药物或光动力诊断的诊断试剂。
本发明还提供了一种合成式I所示的两亲性硅酞菁光敏剂的方法,包括以下步骤:
1)合成二氯硅酞菁:二氯硅酞菁采用异吲哚路线,将异吲哚与四氯化硅在高沸点有机溶剂(如喹啉)中加热,通过缩合反应制得;
2)合成轴向修饰的硅酞菁:二氯硅酞菁和相应的轴向配体(OH-Ph-(C2H4)n-COOH)为原料,氢化钠作为催化剂,在甲苯等有机溶剂中回流反应制备而成;
3)合成RGD环肽偶联的两亲性硅酞菁:将含有游离氨基(-NH2)的RGD环肽通过该游离氨基与硅酞菁轴向修饰配体中的羧基(-COOH),在无水条件下,于有机溶剂中按摩尔比1:1进行酰胺反应,得到RGD环肽偶联的两亲性硅酞菁。
本发明所述两亲性硅酞菁光敏剂的合成路线如下:
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