[发明专利]防反射膜及光学部件

说明书

本发明能够提供一种防反射膜及光学部件。设置于光学部件(1)的光学基材(2)上的防反射膜(3)具备：反射率调整膜(4)，包含第1层(10)、比第1层(10)高折射率的第2层(11)及比第2层(11)低折射率的第3层(12)，且自表面(4a)起的厚度为20nm以上且小于150nm；及光催化膜(5)，包含含有二氧化钛的一层以上的光催化活性层(14)，设置于反射率调整膜(4)与光学基材(2)之间且反射率调整膜侧的界面(5a)配置于自表面(4a)起150nm以下的位置，并且光催化活性层(14)的合计厚度为350nm以上且1000nm以下。

本申请是国际申请号为PCT/JP2018/011924、进入中国国家阶段日期为2019年10月11日、国家申请号为201880024723.1、发明名称为“防反射膜及光学部件”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种防反射膜及光学部件。

背景技术

监控摄像机、车载相机等设置于户外的相机的透镜、罩等光学部件的表面上会附着污垢，附着污垢的光学部件的表面一般为疏水性。而且，若为疏水性的光学部件的表面被水润湿，则水滴残留于光学部件的表面上，水滴会妨碍视野。因此，作为构成光学部件的表面的防反射膜，已知有通过具有光催化活性的二氧化钛的自清洁作用来维持表面的亲水性的防反射膜。

专利文献1中所记载的防反射膜为设置于基材上的防反射膜，其由包含二氧化钛的高折射率层和包含二氧化硅的低折射率层交替地层叠4层而成，表面由低折射率层构成。而且，关于实施例的各层的厚度，从基材侧依次是作为高折射率层的第1层为15nm，作为低折射率层的第2层为30nm，作为高折射率层的第3层为120nm，构成表面的作为低折射率层的第4层为90nm。

专利文献2中所记载的防反射膜为设置于基材上的防反射膜，其与专利文献1中所记载的防反射膜相同地，由包含二氧化钛的高折射率层和包含二氧化硅的低折射率层交替地层叠4层而成，表面由低折射率层构成。而且，关于实施例的各层的厚度，从基材侧依次是作为高折射率层的第1层为20nm，作为低折射率层的第2层为25nm，作为高折射率层的第3层为240nm，构成表面的作为低折射率层的第4层为90nm。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-003390号公报

专利文献2：日本特开2016-224113号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

二氧化钛的自清洁作用是通过由二氧化钛中产生的氧自由基分解附着于表面的污垢而提供的。在专利文献1中所记载的防反射膜及专利文献2中所记载的防反射膜中，包含二氧化钛的第3层由构成防反射膜的表面的第4层覆盖，在将第3层中产生的氧自由基有效地输送到防反射膜的表面的观点上，第4层优选较薄。而且，在增加氧自由基的产生量的观点上，第3层优选较厚。

另一方面，考虑到作为防反射膜的实用性，例如为了在波长400nm～700nm的范围内实现1％以下的平均反射率，优选包含构成防反射膜的表面的二氧化硅的第4层的厚度为20nm以上，且与第4层相邻的包含二氧化钛的第3层的厚度为150nm以下。

在专利文献1中所记载的防反射膜中，包含二氧化硅的第4层的厚度为90nm，包含二氧化钛的第3层的厚度为120nm。在该情况下，氧自由基不足，有可能得不到足以维持表面的亲水性的自清洁作用。在专利文献2中所记载的防反射膜中，包含二氧化硅的第4层的厚度为90nm，包含二氧化钛的第3层的厚度为240nm。在该情况下，平均反射率为1％以下的频带变窄，有可能缺乏作为防反射膜的实用性。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种能够兼顾反射率特性的提高和表面的亲水性的维持的防反射膜及光学部件。

用于解决技术课题的手段