[发明专利]防反射膜及光学部件在审
| 申请号： | 202110985368.8 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113703077A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 高桥裕树 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 光学 部件 | ||
1.一种防反射膜，其设置于光学基材上，所述防反射膜具备：
反射率调整膜，包含第1层、相对于所述第1层配置于该防反射膜的表面侧且比所述第1层高折射率的第2层、及相对于所述第2层配置于所述表面侧且比所述第2层低折射率的第3层，且自所述表面起的厚度为20nm以上且小于150nm；及
光催化膜，包含含有二氧化钛的一层以上的光催化活性层，设置于所述反射率调整膜与所述光学基材之间且所述反射率调整膜侧的界面配置于自所述表面起150nm以下的位置，并且所述光催化活性层的合计厚度为350nm以上且486nm以下。
2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，
形成所述第1层的材料为选自SiO2、氟化镁、Si3N4的材料，
形成所述第2层的材料为选自TiO2、ITO、ZnO、SnO2、In2O3、Nb2O5、Ta2O5、TiN、ZrO的材料，
形成所述第3层的材料为选自SiO2、氟化镁、Si3N4的材料。
3.根据权利要求2所述的防反射膜，其中，
形成所述第1层的材料和形成所述第3层的材料均为SiO2或者氟化镁。
4.根据权利要求2所述的防反射膜，其中，
形成所述第2层的材料为TiO2。
5.根据权利要求2所述的防反射膜，其中，
所述光催化膜中所包含的光催化活性层为多层。
6.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，
所述光催化膜中所包含的光催化活性层为一层。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜，其中，
所述光催化活性层中所含有的二氧化钛的晶体结构为锐钛矿结构。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜，其中，
所述光催化活性层还含有选自氮、硫、铬、锑、铈的组中的一种以上的元素。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜，其中，
所述第3层包含二氧化硅且形成所述表面。
10.一种光学部件，其在光学基材上设置有权利要求1至9中任一项所述的防反射膜。
11.根据权利要求10所述的光学部件，其中，
所述光学基材为透镜。
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