[发明专利]正型光刻胶及制备方法、玻璃壳体的制备方法和电子设备

说明书

本申请提供了一种正型光刻胶，包括酚醛树脂、光敏剂、助剂和溶剂，所述酚醛树脂的重均分子量大于或等于18000，所述助剂包括交联剂，所述交联剂的结构式如式(I)所示：该正型光刻胶具有优异的耐酸性能、粘附性能和热稳定性，其能够在酸性刻蚀液刻蚀玻璃的过程中对玻璃无需进行刻蚀的表面进行保护，同时该正型光刻胶可以长时间稳定地处于酸性刻蚀液中，有利于玻璃表面刻蚀深度的加强，使得玻璃刻蚀效果更加明显。本申请还提供了正型光刻胶的制备方法、壳体的制备方法以及电子设备。

技术领域

本申请属于电子产品技术领域，具体涉及正型光刻胶及制备方法、玻璃壳体的制备方法和电子设备。

背景技术

随着电子设备的不断发展，用户对电子设备外观效果的要求也越来越高。因而，为了满足越来越高的用户审美要求，电子设备的外观也需要不断发展丰富，为用户提供更好的使用体验。电子设备采用玻璃壳体并在玻璃壳体上形成纹理已经成为一种流行的设计方式。为了实现玻璃壳体上的纹理，需要一种精度高的光刻胶充当保护，然后进行蚀刻再褪去光刻胶后得到纹理。

发明内容

鉴于此，本申请提供了正型光刻胶及其制备方法、玻璃壳体的制备方法和电子设备。

第一方面，本申请提供了一种正型光刻胶，包括酚醛树脂、光敏剂、助剂和溶剂，所述酚醛树脂的重均分子量大于或等于18000，所述助剂包括交联剂，所述交联剂的结构式如式(I)所示：

第二方面，本申请提供了一种正型光刻胶的制备方法，包括：

将酚醛树脂、光敏剂、助剂和溶剂混合均匀得到混合液，其中，所述酚醛树脂的重均分子量大于或等于18000，所述助剂包括交联剂，所述交联剂的结构式如式(I)所示：

所述混合液经过滤后得到正型光刻胶。

第三方面，本申请提供了一种玻璃壳体的制备方法，包括：在玻璃基板的第一表面涂覆第一方面所述的正型光刻胶或第二方面所述的制备方法制得的正型光刻胶，经固化后形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光；对曝光后的所述光刻胶层进行显影和硬烤，形成图案化光刻胶层；用酸性刻蚀液刻蚀所述第一表面，在所述第一表面上形成多个凹陷结构，得到玻璃壳体。

第四方面，本申请提供了一种电子设备，包括第三方面所述的制备方法制得的玻璃壳体。

本申请提供了一种正型光刻胶，可用于玻璃刻蚀，该正型光刻胶具有优异的耐酸性能、粘附性能和热稳定性，能够在酸性刻蚀液刻蚀玻璃的过程中对玻璃无需进行刻蚀的表面进行保护，同时该正型光刻胶可以长时间稳定地处于酸性刻蚀液中，有利于玻璃表面刻蚀深度的加强，使得玻璃刻蚀效果更加明显。该正型光刻胶的制备方法简单，操作方便，有利于工业化生产。利用该正型光刻胶对玻璃表面进行刻蚀，刻蚀深度选择范围更广，可以制得表面纹理清晰的玻璃壳体。具有该玻璃壳体的电子设备的外观纹理效果明显，产品竞争力提升，更能够满足用户需求。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。

图1为本申请一实施方式提供的正型光刻胶的制备方法流程图。

图2为本申请一实施方式提供的玻璃壳体的制备方法流程图。

图3为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图。

图4为本申请一实施方式提供的电子设备的结构组成示意图。

具体实施方式

以下是本申请的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。