[发明专利]正型光刻胶及制备方法、玻璃壳体的制备方法和电子设备在审
申请号: | 202110985128.8 | 申请日: | 2021-08-25 |
公开(公告)号: | CN113671794A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 敖玉银;张涛;邱惊龙;韩泽;詹建波;郑俊威 | 申请(专利权)人: | OPPO广东移动通信有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;H05K5/02 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 523860 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 制备 方法 玻璃 壳体 电子设备 | ||
1.一种正型光刻胶,其特征在于,包括酚醛树脂、光敏剂、助剂和溶剂,所述酚醛树脂的重均分子量大于或等于18000,所述助剂包括交联剂,所述交联剂的结构式如式(I)所示:
2.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述正型光刻胶中所述酚醛树脂的质量占比为20%-25%,所述交联剂的质量占比为0.5%-2%。
3.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述酚醛树脂的重均分子量为18000-30000,所述酚醛树脂的软化点大于160℃。
4.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述酚醛树脂的端基包括二甲酚基。
5.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述酚醛树脂包括高邻位酚醛树脂,所述酚醛树脂中所述高邻位酚醛树脂的质量占比大于或等于90%。
6.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述正型光刻胶中所述光敏剂的质量占比为4%-5%;
所述光敏剂包括重氮萘醌磺酸酯类,所述重氮萘醌磺酸酯类包括2,3,4-三羟基二苯甲酮-2,1,5-重氮萘醌磺酸酯和2,2',4,4'-四羟基二苯甲酮-2,1,5-重氮萘醌磺酸酯中的至少一种,所述重氮萘醌磺酸酯类中羟基的酯化率为66%-88%。
7.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述正型光刻胶中所述助剂的质量占比为2%-5%;
所述助剂还包括溶解促进剂、偶联剂和流平剂中的至少一种,所述正型光刻胶中所述溶解促进剂的质量占比为1%-2%,所述偶联剂的质量占比为0.1%-0.5%,所述流平剂的质量占比为0.1%-0.5%。
8.如权利要求7所述的正型光刻胶,其特征在于,所述溶解促进剂包括4-[4-[1,1-双(4-羟苯基)乙基]]-α,α-二甲基苄基苯酚、2-环己基-4-[2-[3-[2-(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)丙-2-基]苯基]丙-2-基]-5-甲基苯酚、2,6-双(4-羟基-2,5-二甲基苄基)-4-甲基苯酚、4,6-双[2-(4-羟基苯基)丙-2-基]苯-1,3-二醇、2,6-双[(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲基]-4-甲基苯酚、4,4'-(环己烷-1,1-二基)二酚和式(II)所示的物质中的至少一种,
9.如权利要求7所述的正型光刻胶,其特征在于,所述偶联剂包括硅烷偶联剂,所述硅烷偶联剂含有氨基、酰胺基、脲基、酮亚胺基、异氰酸酯基、巯基、异氰脲酸环骨架、甲基丙烯酰基和苯乙烯基中的至少一种。
10.如权利要求7所述的正型光刻胶,其特征在于,所述流平剂包括含氟的表面活性剂、含硅酮的表面活性剂、含聚环氧烷烃的表面活性剂和含聚甲基丙烯酸酯的表面活性剂中的至少一种。
11.如权利要求1所述的正型光刻胶,其特征在于,所述正型光刻胶中所述溶剂的质量占比为65%-75%,所述溶剂的沸点为120℃-170℃,所述溶剂包括酯类、醇类和酮类化合物中的至少一种,所述酯类包括丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯和乳酸乙酯中的至少一种。
12.一种正型光刻胶的制备方法,其特征在于,包括:
将酚醛树脂、光敏剂、助剂和溶剂混合得到混合液,其中,所述酚醛树脂的重均分子量大于或等于18000,所述助剂包括交联剂,所述交联剂的结构式如式(I)所示:
所述混合液经过滤后得到正型光刻胶。
13.如权利要求12所述的制备方法,其特征在于,按质量分数计,所述混合液包括20%-25%的所述酚醛树脂,4%-5%的所述光敏剂,0.5%-2%的所述交联剂,65%-75%的所述溶剂。
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