[发明专利]一种盐穴储氢井环空保护液及其制备方法

权利要求书

1.一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，包括以质量百分比计的以下组分：有机盐类15％～40％、pH调节剂2.3％～8.0％，杀菌剂1.0～4.0％、氢气指示剂0.1～1％、气井缓蚀剂0.5～2％、除氧剂0.5％～6.0％，余量为水。

2.根据权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述的有机盐类为甲酸钠、甲酸钾、乙酸钠、乙酸钾中的一种或几种。

3.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述pH调节剂为碳酸盐和/或碳酸氢盐，所述碳酸盐选自碳酸钠和/或碳酸钾；所述碳酸氢盐选自碳酸氢钠和/或碳酸氢钾。

4.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述的杀菌剂为2，2-二溴-2-氰基乙酰胺、卡那霉素、盐酸克林沙星中的一种。

5.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述氢气指示剂为WO₃和金属化合物，所述WO₃与金属化合物质量比为或者60：1，所述金属化合物为钯的化合物或者铂的化合物，所述钯的化合物为醋酸钯，所述铂的化合物为氯化铂。

6.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述的气井缓蚀剂为糖蜜、葡萄糖酸钠、磷酸二氢锌、尿素、九水合硅酸二钠和木质素磺酸钠中的一种或几种组成。

7.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述的除氧剂为二甲基酮肟。

8.如权利要求1所述的一种盐穴储氢井环空保护液，其特征在于，所述的水为去离子水，所述去离子水在线电导＜0.3us/cm，二氧化硅含量＜20ppb。

9.如权利要求1～8所述的盐穴储氢井环空保护液的制备方法，包括以下步骤：

S1、在常温下，按上述环空保护液各成分的重量百分比，称量好各个原料；

S2、在反应釜中加入一定量的去离子水；

S3、往去离子水中通入氮气，鼓泡，排除溶解在水中的氧气；

S4、向步骤S3得到的溶液中依次加入有机盐类、pH调节剂、杀菌剂、氢气指示剂、气井缓蚀剂和除氧剂，搅拌均匀，直至固体全部溶解，即得到适用于盐穴储氢井的环空保护液。

10.如权利要求9所述的环空保护液制备方法，其特征在于，所述环空保护液的密度1.00～1.05g/cm³,所述环空保护液的腐蚀速率≤0.025mm/a,所述环空保护液的pH值9.0～12。