[发明专利]一种电容外观检测控制方法及装置在审

专利信息
申请号: 202110976735.8 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113884504A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 郭名鹏;王桂林;黄珏皓;郭馨予;黄光显;何必仕 申请(专利权)人: 湖南云眼智能装备有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/01;B07C5/34
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 肖宇扬
地址: 412000 湖南省株洲市天元区创业*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 电容 外观 检测 控制 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种电容外观检测控制方法,其特征在于,所述方法包括:

获取待处理电容图像信息;所述待处理电容图像信息包括若干张待处理电容图像;

根据所述待处理电容图像信息和预设的人工智能模型,确定出外观检测类型集合;所述外观检测类型集合包括至少一个所述待处理电容图像对应的外观检测类型;

根据所述外观检测类型集合,确定出目标电容对应的目标类型。

2.根据权利要求1所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,所述根据所述待处理电容图像信息和预设的人工智能模型,确定出外观检测类型集合,包括:

对于待处理电容图像信息中的任一所述待处理电容图像,根据该待处理电容图像和预设的人工智能模型,确定出该待处理电容图像对应的浮点数;

根据所述浮点数和预设的阈值分类规则,确定出该待处理电容图像对应的外观检测类型。

3.根据权利要求1所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,所述根据所述外观检测类型集合,确定出目标电容对应的目标类型,包括:

根据所述外观检测类型集合和预设的类型判别规则,确定出所述目标电容对应的目标类型;所述类型判别规则与所述目标类型对应的外观检测类型的数量相关。

4.根据权利要求3所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,所述根据所述外观检测类型集合和预设的类型判别规则,确定出所述目标电容对应的目标类型,包括:

对所述外观检测类型集合中所有所述待处理电容图像对应的外观检测类型进行数量统计处理,得到外观检测类型数量信息;

根据所述外观检测类型数量信息和预设的类型判别规则,确定出所述目标电容对应的目标类型。

5.根据权利要求1所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,在获取待处理电容图像信息之前,所述方法还包括:

获取原始电容图像信息;所述原始电容图像信息包括若干张原始电容图像;

对所述原始电容图像信息进行处理,得到待选电容图像信息;所述待选电容图像信息包括若干张待选电容图像。

6.根据权利要求5所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,在所述对所述原始电容图像信息进行处理,得到待选电容图像信息之后,所述方法还包括:

根据所述待选电容图像信息和预设的筛选模型,确定出所述待处理电容图像信息。

7.根据权利要求6所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,所述根据所述待选电容图像信息和预设的筛选模型,确定出所述待处理电容图像信息,包括:

对于所述待选电容图像信息中的任一所述待选电容图像,利用预设的筛选模型确定出该待选电容图像对应的待选类型;

判断该待选电容图像对应的待选类型是否满足剔除条件,得到第一判断结果;

当所述第一判断结果表示该待选电容图像对应的待选类型不满足剔除条件时,将该待选电容图像确定为所述待处理电容图像。

8.根据权利要求6所述的电容外观检测控制方法,其特征在于,所述根据所述待选电容图像信息和预设的筛选模型,确定出所述待处理电容图像信息,包括:

对于所述待选电容图像信息中的任一所述待选电容图像,利用预设的筛选模型对该待选电容图像进行去背景处理,并提取轮廓特征,得到所述待处理电容图像。

9.一种电容外观检测控制装置,其特征在于,所述装置包括:

获取模块,用于获取待处理电容图像信息;所述待处理电容图像信息包括若干张待处理电容图像;

第一确定模块,用于根据所述待处理电容图像信息和预设的人工智能模型,确定出外观检测类型集合;所述外观检测类型集合包括至少一个所述待处理电容图像对应的外观检测类型;

第二确定模块,用于根据所述外观检测类型集合,确定出目标电容对应的目标类型。

10.一种电容外观检测控制装置,其特征在于,所述装置包括:

存储有可执行程序代码的存储器;

与所述存储器耦合的处理器;

所述处理器调用所述存储器中存储的所述可执行程序代码,执行如权利要求1-8任一项所述的电容外观检测控制方法。

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