[发明专利]基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验设备及方法

权利要求书

1.一种基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验设备，其特征在于：包括光学暗箱、黑体辐射炉以及样品台，其中黑体辐射炉以高度可调节方式设于光学暗箱一侧的辐射炉移动台上，光学暗箱的发射口与黑体辐射炉光输入口之间通过遮光罩对接；样品台滑动安装于黑体辐射炉中。

2.根据权利要求1所述的基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验设备，其特征在于：所述光学暗箱的一端设有暗箱口面板、上方折叠挡板以及下方折叠挡板，暗箱口面板上下两端分别通过上方折叠挡板、下方折叠挡板与光学暗箱的端部框架进行软连接；暗箱口面板上设有对齐支架固定孔。

3.根据权利要求2所述的基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验设备，其特征在于：光学暗箱的暗箱口面板的暗箱口处设有斩波器，斩波器为可旋转的扇叶结构，扇叶旋转轴位于黑体辐射源的光轴一侧，扇叶部分通过旋转扫过暗箱口。

4.根据权利要求1所述的基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验设备，其特征在于：所述遮光罩后端与辐射炉的辐射炉发射口固定连接，前端与暗箱口面板对接；遮光罩两侧设有L形的对齐支架，两个对齐支架一端分别固定于遮光罩后端两侧，另一端固定安装于黑体辐射炉的底端的安装板两侧。

5.根据权利要求1所述的基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验方法，其特征在于包括以下步骤：

1)以黑体辐射炉作为辐射源，使黑体辐射炉发射口与暗箱口面板的位置固定；

2)采用遮光罩将辐射炉发射口与暗箱口对接，黑体辐射沿光轴方向射入暗箱中；

3)将火焰探测器样品安装在高度可调节样品支座上，通过支座的上下调节使样品敏感元件与光轴对齐；

4)通过前后滑动光学轨道上的滑动座在光学滑轨上调节样品敏感元件与黑体辐射源之间的距离，并观察该距离处辐射计的示值，保证样品敏感元件处于试验规定的辐照度条件；

5)观察样品在上述热干扰模拟条件下的工作情况，如果在指定热干扰严酷等级条件下探测器发生误报警信号或故障信号，则试验结果判定为不符合。

6.根据权利要求5所述的基于黑体辐射源的火焰探测器热干扰试验方法，其特征在于使黑体辐射炉发射口与暗箱口面板的位置固定，具体为：

通过辐射炉移动台和辐射炉支座调整辐射炉发射口位置，通过上方折叠挡板、下方折叠挡板的伸缩调整暗箱口面板高度，使辐射炉发射口与暗箱口对齐，并通过对齐支架前端插入设于暗箱口面板上的对齐支架固点实现相对位置的固定。