[发明专利]外延设备清洗提醒方法、装置、电子设备及存储介质

说明书

本发明涉及外延生长技术领域，具体公开了一种外延设备清洗提醒方法、装置、电子设备及存储介质，所述方法包括以下步骤：获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息；根据所述颗粒物直径信息和预设的颗粒物直径阈值的比较结果发出清洗提醒信息；该方法通过获取外延设备运行过程中产生的反应尾气中的颗粒物直径信息，以间接获知外延设备反应室内杂质的生长情况，基于颗粒物直径信息和颗粒物直径阈值的比较结果可确定外延设备的反应室是否需要进行清洗，能及时提醒用户清洗外延设备，避免产生过多的劣质产品，实现智能化清洗提醒功能，以确定外延设备的最优维护时间。

技术领域

本申请涉及外延生长技术领域，具体而言，涉及一种外延设备清洗提醒方法、装置、电子设备及存储介质。

背景技术

外延设备的脏污问题是影响外延效率的主要因素，因此，外延设备在运行一段时间后便需要停机进行设备清洗维护，否则脏污的反应室会影响外延生长质量。

现有的外延设备，一般在连续使用1-2天便需要进行设备清洗维护，当前主要判断设备是否需要维护的标准是生长厚度，即利用外延片的产量进行判断，采用这种判断方式的主要原因是因为现有技术中没有很好的标准来判断设备内部的运行状态，只能根据经验值设定一个生长厚度标准进行判断；然而，这个人为设定的生长厚度标准缺少与反应室内情况的直接关联性，常常未能作为精确指标提醒用户清洗外延设备，导致产品产生缺陷。

针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种外延设备清洗提醒方法、装置、电子设备及存储介质，能及时提醒用户清洗外延设备，实现智能化清洗提醒功能。

第一方面，本申请实施例提供了一种外延设备清洗提醒方法，用于提示外延设备的反应室需要进行清洗，所述方法包括以下步骤：获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息；

根据所述颗粒物直径信息和预设的颗粒物直径阈值的比较结果发出清洗提醒信息。

本申请实施例的一种外延设备清洗提醒方法，通过获取外延设备运行过程中产生的反应尾气中的颗粒物直径信息，以间接获知外延设备反应室内杂质的生长情况，即间接获取了反应室内掉落物大小数据，基于颗粒物直径信息和颗粒物直径阈值的比较结果可确定外延设备的反应室是否需要进行清洗，能及时提醒用户清洗外延设备，避免产生过多的劣质产品，实现智能化清洗提醒功能，以确定外延设备的最优维护时间。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述根据所述颗粒物直径信息和预设的颗粒物直径阈值的比较结果发出清洗提醒信息的步骤包括：

获取颗粒物直径信息中最大颗粒物的直径；

比较最大颗粒物的直径和预设的颗粒物直径阈值之间的大小；

若最大颗粒物的直径大于或等于颗粒物直径阈值，发出清洗提醒信息。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述颗粒物直径阈值为50-100μm。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述方法还包括步骤：若发出清洗提醒信息时，外延设备中存在正在外延生长的衬底，待该衬底完成外延生长后，暂停外延设备运行。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息的步骤为：在外延设备启动后开始获取或在外延设备启动后延时开始获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息的步骤为：持续获取或间断获取外延设备产生的反应尾气的颗粒物直径信息。

所述的一种外延设备清洗提醒方法，其中，所述颗粒物直径信息为间断获取，所述颗粒物直径信息的间断获取的间隔为定值或随外延设备运行时长逐步缩短。