[发明专利]碳化硅晶体生长装置和晶体生长方法有效

专利信息
申请号: 202110940779.5 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113622016B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 王睿仑;张洁;廖弘基;杨树 申请(专利权)人: 福建北电新材料科技有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/36
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘曾
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 碳化硅 晶体生长 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种碳化硅晶体生长装置,其特征在于,包括:

坩埚(100)和网状件(200);

所述网状件(200)设置在所述坩埚(100)的坩埚体(110)中,且所述网状件(200)的周缘与所述坩埚体(110)的内壁抵持,所述网状件(200)呈朝向坩埚体(110)底部的凹状;

坩埚(100)底部被配置为用于盛放原料粉料(22),所述网状件(200)被配置为贴合覆盖所述原料粉料(22),所述原料粉料(22)朝向所述坩埚体(110)顶面的表面具有与所述网状件(200)相适配的凹状。

2.根据权利要求1所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

所述网状件(200)为金属网格片;和/或,所述网状件(200)为多层。

3.根据权利要求2所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

所述网状件(200)为钽网。

4.根据权利要求1所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括载台(300);

所述载台(300)的周缘与所述坩埚体(110)的内壁抵持;

所述载台(300)的中心具有朝向坩埚体(110)的坩埚盖(120)的贯穿的引流通道(310);且从远离所述坩埚盖(120)到靠近所述坩埚盖(120)的方向,所述引流通道(310)的开口逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括金属筛网(400);

所述金属筛网(400)设置在所述载台(300)的靠近所述坩埚盖(120)的顶部,以覆盖所述引流通道(310)的开口。

6.根据权利要求5所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

所述引流通道(310)靠近所述坩埚盖(120)的开口处设置有沉台(320);

所述金属筛网(400)设置在所述沉台(320)上以覆盖所述引流通道(310)的开口。

7.根据权利要求6所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括导流罩(500);

所述导流罩(500)具有沿坩埚体(110)高度方向贯穿的导流通道(510);

所述导流罩(500)的底部抵持在所述引流通道(310)的开口的周缘,所述导流罩(500)的顶部抵持在坩埚盖(120)上的籽晶(21)的周缘;

且所述导流通道(510)与所述引流通道(310)正对。

8.根据权利要求1所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括石墨纸(600);

所述石墨纸(600)的周缘与所述坩埚体(110)的内壁抵持;且所述石墨纸(600)设置在所述网状件(200)靠近所述坩埚体(110)底部的一侧。

9.根据权利要求8所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括多晶碳化硅晶锭材料(700);

所述多晶碳化硅晶锭材料(700)填充在所述网状件(200)与所述石墨纸(600)之间。

10.根据权利要求1所述的碳化硅晶体生长装置,其特征在于:

还包括多孔石墨层(800);

所述多孔石墨层(800)设置在所述网状件(200)远离所述坩埚体(110)底部的一侧。

11.一种碳化硅晶体生长装置,其特征在于,包括:

坩埚(100),所述坩埚(100)包括坩埚体(110),坩埚体(110)用于盛放原料粉料(22);

网状件(200),所述网状件(200)用于设置在所述坩埚体(110)中,具有呈朝向坩埚体(110)底部的凹状,被配置为与所述坩埚体(110)的内壁抵持并固定所述原料粉料(22),所述原料粉料(22)朝向坩埚体(110)顶面的表面具有与所述网状件(200)相适配的凹状。

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