[发明专利]显示设备

权利要求书

1.一种制造显示设备的方法，所述方法包括：

将其上形成有显示单元的基底装载到室中；以及

通过从外部装置接收处理气体经过原子层沉积来在所述显示单元上形成无机层，

其中，所述无机层由包括铝、锌、锆和铪中的至少两种的复合氧化物形成。

2.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述无机层的步骤包括：

形成包括所述复合氧化物的第一子无机层；以及

形成第二子无机层，所述第二子无机层包括与形成所述第一子无机层的所述复合氧化物不同的复合氧化物。

3.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述无机层的步骤包括：

形成包括所述复合氧化物的第一子无机层；以及

形成包括金属氮化物和金属氧化物中的一种的第二子无机层。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述无机层是非晶的。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述无机层的厚度小于或等于10nm。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述基底由聚酰亚胺形成。

7.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在所述无机层上堆叠有机层。

8.如权利要求1所述的方法，其中，所述无机层是包括不同材料的多层。

9.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述无机层的步骤包括：

在所述室中配置基底支撑体，以支撑所述基底；

配置气体供应器，以将包括所述处理气体的多种处理气体供应到所述室中的喷头；以及

在所述室中配置喷头，以喷射所述处理气体。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述喷头包括：

第一喷射单元；以及

第二喷射单元，邻近于所述第一喷射单元布置，

其中，由所述第一喷射单元和所述第二喷射单元喷射的所述处理气体彼此不同。

11.如权利要求10所述的方法，其中，所述第一喷射单元和所述第二喷射单元同时喷射所述处理气体。

12.如权利要求10所述的方法，其中，所述第一喷射单元和所述第二喷射单元顺序地喷射处理气体。

13.如权利要求9所述的方法，其中，配置所述气体供应器的步骤包括：

配置第一气体供应器，以向所述喷头供应所述处理气体中的一些；以及

配置与所述第一气体供应器分开形成的第二气体供应器，以供应所述处理气体中的与由所述第一气体供应器供应的所述处理气体不同的其他处理气体。

14.如权利要求13所述的方法，其中，所述第二气体供应器连接到所述第一气体供应器，并且

所述处理气体被混合，然后供应到所述喷头。

15.如权利要求9所述的方法，其中，所述基底支撑体面向所述喷头，并且相对于所述喷头移动。

16.一种制造显示设备的方法，所述方法包括：

将其上形成有显示单元的基底装载到室中；以及

通过从外部装置接收处理气体经过原子层沉积来在所述显示单元上形成无机层，其中，形成所述无机层的步骤包括：

在所述显示单元上形成第一子无机层，所述第一子无机层包括从由氧化铝、氧化锌、氧化锆和氧化铪组成的组中选择的一种；以及

在所述第一子无机层上堆叠第二子无机层，所述第二子无机层包括从由氧化铝、氧化锌、氧化锆和氧化铪组成的组中选择的另一种。