[发明专利]一种显示屏膜层结构、移动终端及膜层结构的制造方法

权利要求书

1.一种显示屏膜层结构，所述膜层结构包括由颜色胶片和色阻材料构成的组合膜层以及由氮氧化硅层、有机封装层和氮化硅层构成的封装膜，其特征在于：所述组合膜层位于所述封装膜的内部。

2.如权利要求1所述的显示屏膜层结构，其特征在于，所述氮氧化硅层、所述有机封装层和所述氮化硅层沿所述膜层结构的内侧至外侧依次设置，所述组合膜层位于所述氮氧化硅层和所述有机封装层之间，所述膜层结构的内侧靠近所述显示屏内部的光源。

3.如权利要求1所述的显示屏膜层结构，其特征在于，所述氮氧化硅层、所述有机封装层和所述氮化硅层沿所述膜层结构的内侧至外侧依次设置，所述组合膜层位于所述有机封装层和所述氮化硅层之间，所述膜层结构的内侧靠近所述显示屏内部的光源。

4.一种移动终端，包括显示屏膜层结构，其特征在于，所述显示屏膜层结构包括由颜色胶片和色阻材料构成的组合膜层以及由氮氧化硅层、有机封装层和氮化硅层构成的封装膜，所述组合膜层位于所述封装膜的内部。

5.一种膜层结构的制造方法，其特征在于，包括：

制造封装膜中的氮氧化硅层；

在所述氮氧化硅层上制造组合膜层；

在所述组合膜层上制造所述封装膜中的有机封装层；

在所述有机封装层上制造所述封装膜中的氮化硅层。

6.如权利要求5所述的膜层结构的制造方法，其特征在于，所述制造封装膜中的氮氧化硅层，包括：

采用等离子体增强化学的气相沉积法形成氮氧化硅层，所述等离子体增强化学的气相沉积法的沉积温度为45℃～55℃。

7.如权利要求5所述的膜层结构的制造方法，其特征在于，所述在所述氮氧化硅层上制造组合膜层，包括：

在所述氮氧化硅层上涂布组合膜层中的色阻材料，形成色阻膜；

在所述色阻膜上开设缺口；

对开设缺口之后的所述色阻膜依次进行曝光、显影和烘烤工艺；

在进行曝光、显影和烘烤工艺之后的所述色阻膜上的缺口处涂布组合膜层中的颜色胶片。

8.如权利要求7所述的膜层结构的制造方法，其特征在于，所述对开设缺口之后的所述色阻膜依次进行曝光、显影和烘烤工艺，包括：

将带有通孔的掩模版覆盖在所述色阻膜上之后依次进行曝光、显影和烘烤工艺，所述掩模版的通孔对准所述色阻膜上非缺口的位置处。

9.如权利要求7所述的膜层结构的制造方法，其特征在于,所述颜色胶片包括红色胶片、绿色胶片和蓝色胶片，所述色阻膜上的每个所述缺口对应所述红色胶片、所述绿色胶片和所述蓝色胶片三种胶片中的一种。

10.如权利要求5所述的膜层结构的制造方法，其特征在于，所述在所述组合膜层上制造所述封装膜中的有机封装层，包括：

在所述组合膜层上采用喷墨打印工艺制作所述有机封装层。

11.如权利要求5所述的膜层结构的制造方法，其特征在于，所述曝光的时间为4秒～6秒。