[发明专利]电极结构的制造装置及其制造方法、触控面板

权利要求书

1.一种电极结构的制造方法，其特征在于，所述电极结构的制造方法包括以下步骤：

在一导电基材上形成一感光材料层；

采用第一掩膜版曝光所述感光材料层；

更换第二掩膜版曝光经所述第一掩膜版曝光后的所述感光材料层，其中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的遮光方向不同；

处理所述感光材料层和所述导电基材，以形成电极结构。

2.如权利要求1所述的电极结构的制造方法，其特征在于，所述处理所述感光材料和所述导电基材，以形成电极结构的步骤包括：

采用显影液对所述感光材料层进行显影，以形成感光层；

采用蚀刻液蚀刻所述导电基材，以形成电极结构。

3.如权利要求2所述的电极结构的制造方法，其特征在于，所述采用蚀刻液蚀刻所述导电基材的步骤之后，还包括：

脱模所述感光层，以形成电极结构。

4.如权利要求2所述的电极结构的制造方法，其特征在于，所述采用显影液对所述感光材料层进行显影的步骤之后，还包括：

烘烤所述感光材料层，以形成感光层。

5.如权利要求1所述的电极结构的制造方法，其特征在于，所述更换第二掩膜版曝光经所述第一掩膜版曝光后的所述感光材料层的步骤包括：

将采用所述第一掩膜版曝光后的所述感光材料层从所述第一掩膜版的正对位置移动至第二掩膜版的正对位置；

采用所述第二掩膜版曝光所述感光材料层。

6.如权利要求1所述的电极结构的制造方法，其特征在于，所述更换第二掩膜版曝光经所述第一掩膜版曝光后的所述感光材料层的步骤包括：

将对所述感光材料层曝光后的所述第一掩膜版从所述感光材料层的正对位置拿走；

将第二掩膜版放置于所述感光材料层的正对位置；

采用所述第二掩膜版曝光所述感光材料层。

7.一种触控面板，其特征在于，所述触控面板包括：

电极结构，所述电极结构通过如权利要求1-6任意一项所述的电极结构的制造方法制造。

8.一种电极结构的制造装置，其特征在于，所述电极结构的制造装置包括处理器、存储器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的电极结构的制造方法程序，所述电极结构的制造方法程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至6中任意一项所述电极结构的制造方法的步骤。

9.如权利要求8所述的电极结构的制造装置，其特征在于，所述电极结构的制造装置还包括：

第一掩膜版以及第二掩膜版，所述第一掩膜版具有至少两个遮光方向相同的第一遮光条，所述第二掩膜版具有至少两个遮光方向相同的第二遮光条。

10.如权利要求9所述的电极结构的制造装置，其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的遮光方向垂直。