[发明专利]反射式编码器标志板及该标志板上图案形成方法在审

专利信息
申请号: 202110892457.8 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN113587960A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 矢泽进;川又美智子 申请(专利权)人: 纳诺科斯电子(北京)有限公司
主分类号: G01D5/34 分类号: G01D5/34;G01D5/347;G01D11/00;G03F1/46;G03F1/76
代理公司: 北京阳光天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11671 代理人: 赵飞
地址: 101113 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射 编码器 标志 图案 形成 方法
【说明书】:

发明提供了反射式编码器标志板包括:金属基板和防反射涂层,所述防反射涂层直接涂覆在所述金属基板上,并形成各种图案;相应地,本发明还提出了两种图案形成方法,本发明精度更高,且表面更加平整,制造图案更加清晰。

技术领域

本发明涉及电子技术领域,尤其涉及到一种反射式编码器标志板及该标志板上图案形成方法。

背景技术

在电子技术领域中,旋转和线性编码器对于控制各种机器的旋转、移动和速度是不可或缺的,如自动化技术和机器人。以编码器工作原理可分为:光电式、磁电式和触点电刷式,而光电式编码器分两种:透射光型和反射光型。透射光式的基底材料,对于高精度的要求是玻璃,而对于其他要求,如抗震性,则是不锈钢或镍或其复合材料。也可以提供其他材料,如薄膜和树脂。反射式码盘是一种通过光电转换将输出轴上的机械集合位移量转换成脉冲或数字量的传感器。目前光学反射式存在精度不够、表面平整度差和易受温度影响等问题。

综上所述,提供一种精度更高,且表面更加平整,可有效地防止信号干扰的反射式编码器标志板及该标志板上图案形成方法,是本领域技术人员急需解决的问题。

发明内容

本方案针对上文提到的问题和需求,提出一种反射式编码器标志板及该标志板上图案形成方法,其由于采取了如下技术方案而能够解决上述技术问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种反射式编码器标志板包括:金属基板和防反射涂层,所述防反射涂层直接涂覆在所述金属基板上,并形成各种图案。

进一步地,所述防反射涂层的材料是氧化铬。

更进一步地,所述防反射涂层厚度基本厚度为光源波长λ的 1/4。

进一步地,所述金属基板是不锈钢或铝或其他合金金属或覆盖有反射性金属薄膜的玻璃板或覆盖有反射性金属薄膜的树脂板。

进一步地,所述金属基板的形状为圆形或条形或其他形状,例如扇形。

进一步地,所述涂覆方式为蒸镀。

一种图案形成方法,具体包括如下步骤:

S1:准备金属基板;

S2:在所述金属基板的一个表面涂覆一层防反射涂层,所述防反射涂层是通过蒸镀氧化铬形成的,且厚度约为光源波长λ的1/4;

S3:在必要区域再涂覆一层光刻胶;

S4:通过光蚀刻只去除不必要区域的部分,去除光刻胶形成最终图案,图案线条之间缝隙宽度可以小到0.01毫米。

本发明又提供了一种图案形成方法,具体包括如下步骤:

S1:准备金属基板;

S2:在所述金属基板的一个表面的不必要区域涂覆一层光刻胶,然后在该表面上涂覆一层防反射涂层,所述防反射涂层是通过蒸镀一层氧化铬形成的,且厚度约为光源波长λ的1/4;

S3:所述光刻胶厚度大于所述防反射涂层的厚度;

S4:然后去除光刻胶形成最终图案,图案线条之间缝隙宽度可以小到0.01毫米。

进一步地,在准备金属基板之前,需要将金属基板通过激光或冲压加工成所需形状。

进一步地,在准备金属基板之前,需要创建好指定尺寸和形状,在图案制作成功后,再通过激光或冲压将其加工成所需的形状。

从上述的技术方案可以看出,本发明的有益效果是:精度更高,且表面更加平整,可有效地防止信号干扰,且制造图案更加清晰。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外,下文中将结合附图对实施本发明的最优实施例进行更详尽的描述,以便能容易地理解本发明的特征和优点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳诺科斯电子(北京)有限公司,未经纳诺科斯电子(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110892457.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top