[发明专利]一种快速氢致变色WO3

权利要求书

1.一种快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，包括由下往上依次排列的基体、WO₃种子层、底层催化剂层、WO₃层、面层催化剂层；

所述WO₃层为纳米结构层；底层催化剂并没有将种子层完全覆盖；

所述快速氢致变色WO₃薄膜的制备方法，包括以下步骤：

A、在基体上制备WO₃种子层；

B、在种子层上负载底层催化剂层；

C、在底层催化剂层上制备WO₃层；

D、在WO₃层上负载面层催化剂层；

步骤C中WO₃层制备采用的方法为溶剂热法，具体步骤包括：将步骤B处理后的基体放入反应釜，在反应釜内加入乙醇、钨源和封端剂后进行保温处理，将得到的纳米W₁₈O₄₉薄膜进行退火处理得到纳米结构WO₃层。

2.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，所述底层催化剂层中的催化剂包括Pt、Pd或Pt-Pd合金中的一种或几种；底层催化剂层厚度为1nm～10nm。

3.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，所述面层催化剂层中的催化剂包括Pt、Pd或Pt-Pd合金中的一种或几种；面层催化剂层厚度在1nm～10nm。

4.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，所述钨源包括钨酸、钨酸盐、羰基钨、氯化钨、过氧聚钨酸中的一种或几种的混合；钨源的浓度为1.4g/L～1.8g/L。

5.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，所述保温处理的温度为180～220℃。

6.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，所述退火温度为300～500℃，退火时间0.5～6h。

7.根据权利要求1所述快速氢致变色WO₃薄膜，其特征在于，对步骤D处理好的薄膜进行真空扩散退火处理。