[发明专利]一种席夫碱扩大共轭性的氮化碳伤口敷料及其制备方法

说明书

本发明公开了一种席夫碱扩大共轭性的氮化碳伤口敷料及其制备方法，制备过程包括：将三聚氰胺与乙二醛在无水乙醇中进行反应，之后分离回收反生成的沉淀物，将沉淀物进行干燥；将干燥后的沉淀物在500‑600℃下充分反应，得到产物g‑C_xN₄；将g‑C_xN₄在500‑600℃下充分反应，进行热剥离，得到片状g‑C_xN₄；将片状g‑C_xN₄分散于去离子水中，得到g‑C_xN₄分散液，然后向分散液中加入PVA，并使PVA完全溶解，然后加入硼酸溶液进行交联，得到反应液A；待交联完全后，向反应液A中加入NaCO₃溶液进行反应，反应结束后得到所述席夫碱扩大共轭性的氮化碳伤口敷料。本发明敷料具有高效的光催化效率，对可见光的吸收能力强，且克服了传统光催化剂光生电子‑空穴对复合、工业上难以量产等问题。

技术领域

本发明属于皮肤伤口敷料技术领域，具体涉及一种席夫碱扩大共轭性的氮化碳伤口敷料及其制备方法。

背景技术

皮肤是人体重要的组成部分，是抵御外界污染及细菌感染的天然屏障，但在生活中，皮肤不可避免地会受到一定损伤，继而受到细菌感染而引发一系列的疾病(如溃疡、慢性伤口、皮肤病、身体各个部位的炎症等)甚至死亡。伤口敷料作为预防和治疗细菌感染的方法得到了人们的广泛应用。一般而言，伤口敷料是通过将具有杀菌活性的物质(如天然抑菌剂、抗生素、金属离子)附着在纱布、纤维素、水凝胶等材料表面，以达到杀菌消毒的效果，但这些具有杀菌活性的物质受到了成本、抗生素耐药性、毒性、环境污染等方面的限制，因此迫切需要提出一种绿色、无毒、环保的策略来解决上述问题。

近年来，光催化技术广泛应用于产氢、污染物的降解、二氧化碳的还原等。该技术利用光激发光催化剂分离光生电子-空穴，从而氧化周围的水分子产生的大量ROS(即Reactive Oxygen Species活性氧)，产生的ROS可以侵入细胞内部破坏细菌细胞的DNA和RNA进而导致细菌死亡。大多数已经提出的光催化剂包括金属类(如TiO₂、ZnO、Bi₂O₃、Cu₂O、MOFs、MoS₂、CdS)、非金属类(如g-C₃N₄、CNTs、GO)，通常金属类光催化剂只能在紫外区域起作用，且它们除了在工业化量产上有难度，还存在对人体细胞有毒的问题。非金属类有机半导体g-C₃N₄近年来受到了人们的关注，广泛的应用于光催化、水处理、食品消毒、杀菌等领域，但是g-C₃N₄的禁带宽度约为2.7ev，存在光生电子-空穴对复合的固有问题。为了克服这一问题，通常用贵金属作为助催化剂负载半导体进行电子转移，这样避免了光生电子-空穴对的复合^[18]。基于此，之前研究者们通过构建异质结的方法提高光生电子-空穴的分离效率，但绝大多数研究都是通过二元或三元组分来提高g-C₃N₄的光催化活性以达到杀菌消毒的目的，在没有助催化剂或牺牲供体的情况下(即二元或三元)，无金属光催化剂通常不能进行全面的水裂解从而生成活性氧，只有与金属基助催化剂偶联才能发挥良好的光催化性能。因此，在可见光照射下，在没有助催化剂或牺牲供体的情况下，开发新的策略来促进g-C₃N₄的氧化还原活性，从而有效地提高光催化效率是十分必要的。

现有技术的缺陷和不足：伤口敷料是预防和治疗伤口感染最快速有效的途径。但现有的伤口敷料大多以抗生素、天然抑菌剂、金属离子为抑菌剂。但随着抗生素的广泛使用，越来越多的细菌产生耐药性，使抗生素的抑制效果下降；天然抑菌剂提取过程复杂，所需条件及方法较为严格，受到了成本的限制；金属离子除了对宿主细胞有一定的副作用，还对环境有害。

发明内容