[发明专利]一种用于碳化硅陶瓷基复合材料表层损伤的修复剂及修复方法

权利要求书

1.一种用于碳化硅陶瓷基复合材料表层损伤的修复剂，其特征在于包括固态聚碳硅烷、二甲苯、碳化锆粉、碳化硅粉和碳化硅晶须；组份的质量比1∶1.2~1.8∶0.2~0.6∶0.8~1.5∶0.01~0.15。

2.一种制备权利要求1所述用于碳化硅陶瓷基复合材料表层损伤的修复剂的方法，其特征在于：将质量比1∶1.2~1.8∶0.2~0.6∶0.8~1.5∶0.01~0.15的固态聚碳硅烷、二甲苯、碳化锆粉、碳化硅粉和碳化硅晶须与氧化锆球磨珠一并装入密封球磨罐，以50~120转/min的转速下球磨5~25 h；球磨完毕后采用磁力搅拌器以120~180转/min的转速下搅拌30~45min。

3.一种利用权利要求1所述用于碳化硅陶瓷基复合材料表层损伤的修复剂进行碳化硅陶瓷基复合材料表层损伤的修复方法，其特征在于步骤如下：

步骤1、清理损伤区域：使用金刚石锉刀打磨构件损伤区域，保证损伤区域表面无凹凸，消除高点，顺滑过渡；用经过乙醇浸湿的无尘布擦拭损伤区域，使其充分干燥，无可见灰尘和浮渣；

步骤2、涂刷修复剂：将修复剂均匀涂刷到损伤区域，不得有流挂现象；涂刷后用调至100~150℃条件缓慢反复吹扫涂刷表面不少于30 s，直至修复区表面无粘黏现象；此步骤重复多次；

步骤3、修复区清理：待修复剂完全冷却后，对刷涂区域进行抛光打磨，保证刷涂区域与毗连区域光滑过渡，无因刷涂不均匀而产生的凸起或凹陷；随后，采用无尘布轻拭修复区域，去除灰尘和浮渣；

所述修复层的使用温度范围为-120～1400℃。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述充分干燥：在50~100℃条件吹扫擦拭区或在室温空气条件下静置5~10 min。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述步骤2的重复执行多次为2~5次。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述步骤3的抛光打磨采用600目砂纸对刷涂区域进行抛光打磨。