[发明专利]一种基于自主建图的路线检测方法、装置以及电子设备在审
申请号: | 202110728027.2 | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN113538674A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 唐铭锴;郑林伟;李远航;陈映冰;刘天瑜;王鲁佳;刘明 | 申请(专利权)人: | 深圳一清创新科技有限公司 |
主分类号: | G06T17/05 | 分类号: | G06T17/05;G06T7/00 |
代理公司: | 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 | 代理人: | 许铨芬 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 自主 路线 检测 方法 装置 以及 电子设备 | ||
1.一种基于自主建图的路线检测方法,其特征在于,包括:
获取待测轨迹点的曲率;
获取与所述待测轨迹点相邻的第一轨迹点的曲率;
获取与所述待测轨迹点相邻的第二轨迹点的曲率;
根据所述待测轨迹点的曲率,所述第一轨迹点的曲率,以及所述第二轨迹点的曲率,计算所述待测轨迹点的得分;
判断所述待测轨迹点的得分是否大于预设值;
若是,则确定所述待测轨迹点是跳变轨迹点;
否则,确定所述待测轨迹点不是跳变轨迹点。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取待测轨迹点的曲率的步骤,进一步包括:
拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程;
根据所述轨迹方程,获取所述待测轨迹点的曲率。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程的步骤,进一步包括:
获取所述待测轨迹点的横纵坐标;
获取所述第二轨迹点的横纵坐标;
获取所述第一轨迹点的横纵坐标;
获取与所述第二轨迹点相邻的第三轨迹点的横纵坐标,其中,所述第三轨迹点远离所述待测轨迹点;
根据所述待测轨迹点的横纵坐标、第二轨迹点的横纵坐标、第一轨迹点的横纵坐标和第三轨迹点的横纵坐标,拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程为:
P(t)=A+Bt+Ct2+Dt3;
其中,所述t为参数,t∈[0,1];
其中,所述A、B、C和D可根据四个约束条件求解;
所述四个约束条件包括:
t=0时,P(0)等于所述待测轨迹点的纵坐标;
t=1时,P(1)等于所述第二轨迹点的纵坐标;
t=0时,P′(0)等于第二轨迹点的纵坐标与第一轨迹点的纵坐标的差值,再乘以预设参数;
t=1时,P′(1)等于第三轨迹点的纵坐标与待测轨迹点的纵坐标的差值,再乘以所述预设参数。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述轨迹方程,获取所述待测轨迹点的曲率的步骤,进一步包括:
获取所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的横坐标关于参数t的参数方程X(t);
获取所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的纵坐标关于参数t的参数方程Y(t);
所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的曲率公式为:
其中,t=0时,K(0)即为所述待测轨迹点的曲率。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的方法,其特征在于,所述根据所述待测轨迹点的曲率,所述第一轨迹点的曲率,以及所述第二轨迹点的曲率,计算所述待测轨迹点的得分的公式为:
scorei=|Ki-Ki-1|+|Ki+1-Ki|;
其中,所述scorei为所述待测轨迹点的得分,所述Ki为所述待测轨迹点的曲率,所述Ki-1为所述第一轨迹点的曲率,所述Ki+1为所述第二轨迹点的曲率。
7.根据权利要求1-5任意一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:标记所述跳变轨迹点。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳一清创新科技有限公司,未经深圳一清创新科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110728027.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种钛白粉吸油量测试方法
- 下一篇:一种数控零件加工用抛光装置及使用方法