[发明专利]ITO靶材的制备方法

权利要求书

1.ITO靶材制备方法，包括主制备步骤：

S1、以氧化铟粉末和氧化锡粉末为原料执行造粉步骤，得到ITO复合粉体；

S2、取粒径在20～80μm的ITO复合粉体进行成型烧结，得到ITO靶材；

其特征在于，还包括回收制备步骤：

S3、收集步骤S1所得的复合粉体当中粒径在20-80μm以外的ITO复合粉体进行煅烧，从而将ITO复合粉体分散还原成小颗粒的氧化铟和氧化锡混合粉末，所述煅烧的温度低于将ITO复合粉体烧结成ITO靶材的最低温度；

S4、以步骤S3得到的氧化铟和氧化锡混合粉末为原料执行造粉步骤，得到粒度为20～80μm的ITO复合粉体；

S5、对步骤S4得到的ITO复合粉体进行成型烧结，得到ITO靶材；

其中的造粉步骤包括：

a.加入分散剂和水对原料进行球磨之后，再加入一次分散剂和水进行砂磨；

b.加入粘结剂和消泡剂，搅拌得到ITO浆料；

c.对ITO浆料进行喷雾造粒。

2.如权利要求1所述的ITO靶材的制备方法，其特征在于，步骤S4的造粉步骤中球磨过程分散剂的添加比例小于步骤S1的造粉步骤中球磨过程分散剂的添加比例，步骤S4中砂磨过程分散剂的添加比例小于步骤S1中砂磨过程分散剂的添加比例。

3.如权利要求2所述的ITO靶材的制备方法，其特征在于，步骤S1中，球磨过程分散剂的添加比例为0.3～0.9％，砂磨过程分散剂的添加比例为0.3％～0.7％，步骤S4中，球磨过程分散剂的添加比例为0.2～0.8％，砂磨过程分散剂的添加比例为0.2～0.5％。

4.如权利要求1所述的ITO靶材的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述煅烧具体地，在400～800℃煅烧1～5h。

5.如权利要求1所述的ITO靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，氧化铟粉末和氧化锡粉末的混合比例为90:10、95:5、93:7或97:3。