[发明专利]一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺

权利要求书

1.一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1、将光学玻璃的原料在1400-1450℃温度下熔化，得到熔融料，然后将熔融料投入到熔炼炉中进行熔炼；

S2、在熔炼过程中向熔融料内投入放射动球，放射动球在熔融料内不断下沉，从而切割熔融料中的气泡，使气泡中空气上浮溢出；

S3、对熔炼炉外外加磁场，间隔性的控制放射动球在熔融料内沉浮，大范围的切割气泡；

S4、将熔炼后的物料浇筑至模具中，并进行退火处理，后自然冷却，使得光学玻璃成型；

所述放射动球包括外耐温层（1），所述外耐温层（1）为中空结构，且外耐温层（1）内壁贴附有内隔热层（3），所述外耐温层（1）上活动插设有放射动杆，所述放射动杆与外耐温层（1）连接处设有磁推环；

所述磁推环包括多个成环状分布的磁推杆，所述磁推杆包括与内隔热层（3）固定连接的撑杆（42）以及固定连接在撑杆（42）端部的外推球（41），多个所述外推球（41）围成的环内径大于放射动杆的直径。

2.根据权利要求1所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述熔炼过程持续4-7h，所述步骤S3中每两次控制放射动球在熔融料内的沉浮间隔不超过30min。

3.根据权利要求2所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述光学玻璃成型后，对光学玻璃上明显存在较多气泡的部分进行机械切除处理。

4.根据权利要求1所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述放射动杆包括两端均活动贯穿外耐温层（1）和内隔热层（3）的双贯穿动杆（2）以及固定连接在双贯穿动杆（2）中部的双向动球（5），所述双向动球（5）外端以及外推球（41）朝向外耐温层（1）中心处的外端均固定连接有磁片（6），所述双向动球（5）和外推球（41）上的磁片（6）相互排斥。

5.根据权利要求4所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述外耐温层（1）为高温陶瓷材料制成，所述双贯穿动杆（2）和内隔热层（3）均为泡沫陶瓷材料制成。

6.根据权利要求5所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：相邻两个所述双贯穿动杆（2）位于外耐温层（1）内部分的最小距离大于双向动球（5）直径。

7.根据权利要求6所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述双向动球（5）为中空结构，且双向动球（5）内填充有多个配重颗粒（7）。

8.根据权利要求1所述的一种低气泡率高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述放射动杆包括活动贯穿外耐温层（1）和内隔热层（3）的半贯穿动杆（8）以及固定在半贯穿动杆（8）位于外耐温层（1）内端部的单向动球（9）。