[发明专利]一种可拼接无源反射阵及其设计方法在审
申请号: | 202110684521.3 | 申请日: | 2021-06-21 |
公开(公告)号: | CN115577482A | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 李龙;马培;孔旭东;曾宇鑫 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 北京市诚辉律师事务所 11430 | 代理人: | 李玉娜 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 拼接 无源 反射 及其 设计 方法 | ||
1.一种可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)、确定可拼接无源反射阵的波束重构范围θ0≤θ≤θ1;
2)、根据可拼接无源反射阵的波束重构范围θ0≤θ≤θ1,设计“0”和“1”两类子阵,其中第一类“0”子阵是由若干个平面反射阵单元构成的m0×n0阵列,波束指向为θ0;第二类“1”子阵是由若干个平面反射阵单元构成的m1×n1阵列,波束指向为θ1;
3)、选定具体应用场景所需的可拼接无源反射阵波束指向θ,根据平均相位梯度原理,将Ms个“0”子阵与Ns个“1”子阵进行有序排列,组成反射阵阵列中最小周期行向量Vmin,其中Ms和Ns是大于等于0的整数,使得该最小周期行向量Vmin的主波束指向为θ;
4)、根据具体应用场景以最小周期行向量Vmin为单位分别在阵列的俯仰面和方位面进行扩展,得到所需大小的所述可拼接无源反射阵。
2.根据权利要求1所述的可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,2)中所述m0是“0”子阵在360°相位周期内方位面的平面反射阵单元个数,按下述式子求出:
其中d是平面反射阵单元周期,Pg0是相位梯度,其中k0为空间波数,θ0为设计的“0”子阵期望的波束指向;m0的选取原则是:选择使波束指向可以取到最接近θ0数值的整数值;所述n0是“0”子阵沿俯仰面的平面反射阵单元个数,根据实际应用场景和加工条件设定;
所述θ0是“0”子阵的波束指向,是通过将m0代入下式得到:
3.根据权利要求1所述的可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,2)中所述m1是“1”子阵在360°相位周期内方位面的平面反射阵单元个数,按下述式子求出:
其中d是平面反射阵单元周期,Pg1是相位梯度,其中k0为空间波数,θ1为设计的“1”子阵期望的波束指向;m1的选取原则是:选择使波束指向可以取到最接近θ1数值的整数值;
所述n1是“1”子阵沿俯仰面的平面反射阵单元个数,根据实际应用场景和加工条件设定;
所述θ1是“1”子阵的波束指向,是通过将m1代入下式得到:
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