[发明专利]一种可拼接无源反射阵及其设计方法在审

专利信息
申请号: 202110684521.3 申请日: 2021-06-21
公开(公告)号: CN115577482A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 李龙;马培;孔旭东;曾宇鑫 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 李玉娜
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 拼接 无源 反射 及其 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,包括如下步骤:

1)、确定可拼接无源反射阵的波束重构范围θ0≤θ≤θ1

2)、根据可拼接无源反射阵的波束重构范围θ0≤θ≤θ1,设计“0”和“1”两类子阵,其中第一类“0”子阵是由若干个平面反射阵单元构成的m0×n0阵列,波束指向为θ0;第二类“1”子阵是由若干个平面反射阵单元构成的m1×n1阵列,波束指向为θ1

3)、选定具体应用场景所需的可拼接无源反射阵波束指向θ,根据平均相位梯度原理,将Ms个“0”子阵与Ns个“1”子阵进行有序排列,组成反射阵阵列中最小周期行向量Vmin,其中Ms和Ns是大于等于0的整数,使得该最小周期行向量Vmin的主波束指向为θ;

4)、根据具体应用场景以最小周期行向量Vmin为单位分别在阵列的俯仰面和方位面进行扩展,得到所需大小的所述可拼接无源反射阵。

2.根据权利要求1所述的可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,2)中所述m0是“0”子阵在360°相位周期内方位面的平面反射阵单元个数,按下述式子求出:

其中d是平面反射阵单元周期,Pg0是相位梯度,其中k0为空间波数,θ0为设计的“0”子阵期望的波束指向;m0的选取原则是:选择使波束指向可以取到最接近θ0数值的整数值;所述n0是“0”子阵沿俯仰面的平面反射阵单元个数,根据实际应用场景和加工条件设定;

所述θ0是“0”子阵的波束指向,是通过将m0代入下式得到:

3.根据权利要求1所述的可拼接无源反射阵的设计方法,其特征在于,2)中所述m1是“1”子阵在360°相位周期内方位面的平面反射阵单元个数,按下述式子求出:

其中d是平面反射阵单元周期,Pg1是相位梯度,其中k0为空间波数,θ1为设计的“1”子阵期望的波束指向;m1的选取原则是:选择使波束指向可以取到最接近θ1数值的整数值;

所述n1是“1”子阵沿俯仰面的平面反射阵单元个数,根据实际应用场景和加工条件设定;

所述θ1是“1”子阵的波束指向,是通过将m1代入下式得到:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110684521.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top