[发明专利]开口率测量装置和包括其的显示装置的劣化补偿系统

说明书

根据本公开的实施方式，提供一种开口率测量装置和包括其的显示装置的劣化补偿系统。开口率测量装置包括：实际开口率测量单元，对从多个母基板中选择的一些母基板进行成像，并计算出所成像的一些母基板的像素的开口率实际测量值；估计开口率测量单元，学习多个母基板中的每一个的感测数据并计算出多个母基板中的全部或一组母基板的像素的开口率预测值；以及加法单元，基于开口率实际测量值和开口率预测值计算出最终开口率预测值。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年6月10日提交的韩国专利申请第10-2020-0070440号的优先权和权益，该申请通过引用出于所有目的并入本文如同在本文中完全阐述一样。

技术领域

本发明构思的示例性实施方式和实现方案总体上涉及开口率测量装置以及包括该开口率测量装置的显示装置的劣化补偿系统。

背景技术

显示装置包括像素。每个像素将数据信号充电到存储电容器，并使用发光元件以与所充电的数据信号相对应的亮度发光。

发光元件可以被设置为自发光元件，该自发光元件生成与提供给发光元件的电流(或电压)相对应的预定亮度的光。当发光元件是自发光元件时，亮度可能由于材料本身的劣化而降低。

特别地，由于每个像素中包括的发光元件不均匀地劣化，因此在像素之间可能会出现亮度变化和余像。因此，可能需要补偿图像数据以提高显示装置的显示品质。

在本背景技术部分中公开的以上信息仅用于理解发明构思的背景，并且因此它可能包含不构成现有技术的信息。

发明内容

本公开中描述的目的是提供一种开口率测量装置，与实际测量方法相比，该开口率测量装置能够以减少的成本和时间针对全部母基板或一组母基板预测开口率。

本公开中描述的另一目的是提供一种显示装置的劣化补偿系统，通过反映开口率偏差来补偿图像数据。

本发明构思的附加特征将在下面的描述中阐述，并且部分地将通过描述而变得显而易见，或者可以通过实践本发明构思来获知。

实现目的的一种开口率测量装置包括：实际开口率测量单元，对从多个母基板中选择的一些母基板进行成像并计算出所成像的一些母基板的像素的开口率实际测量值；估计开口率测量单元，学习多个母基板中的每一个的感测数据，并计算出多个母基板中的全部或一组母基板的像素的开口率预测值；以及加法单元，基于开口率实际测量值和开口率预测值来计算出最终开口率预测值。

感测数据可以包括制造多个母基板的基板制造装置的处理速度、处理温度、光致抗蚀剂厚度、光致抗蚀剂温度和曝光量中的至少一种。

像素的开口率可以是像素的发射区域的面积与像素的总面积的比率。

当发射区域具有四边形形状时，可以基于两个相对边之间的最短距离来计算出像素的开口率。

估计开口率测量单元可以使用多个机器学习模型来计算出开口率预测值。

多个机器学习模型可以包括极端梯度增强(XG boost)、分类增强(Cat boost)和光梯度增强机(light GBM)。

加法单元可以使用集成机器学习模型对由多个机器学习模型计算出的每个开口率预测值赋予权重，并且将每个开口率预测值相加。

集成机器学习模型可以包括：可靠性统计值计算单元，基于开口率实际测量值来计算出可靠性统计值；权重历史管理单元，存储要赋予给每个机器学习模型的平均权重；以及重新学习历史管理单元，存储每个机器学习模型的重新学习的次数。

可靠性统计值计算单元可以对开口率实际测量值与开口率预测值之间的差异较小的机器学习模型赋予较高的可靠性统计值。