[发明专利]一种多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法

权利要求书

1.一种多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、对基底玻片进行预处理；在图案印章带有图案的一侧滴加蛋白液，避光孵育后，将所述图案印章沾洗后吹干；

其中，所述图案印章包括多个柱状凸起图案区域，所述柱状凸起图案区域包括柱状多个等间距布置的柱状凸起，所述柱状凸起的截面尺寸与单细胞尺寸近似相等；

步骤二、将所述图案印章按压在预处理后的所述基底玻片上并静置，将所述印章上的蛋白转移到所述基底玻片上，得到带有多个蛋白微图案区域的基底玻片；

步骤三、将带有蛋白微图案的基体玻片放入培养皿中，并向所述培养皿中注入细胞悬液后，放入培养箱中培养，在所述多个蛋白微图案区域得到贴壁生长的细胞图案；

步骤四、将带有细胞图案的基底玻片贴放在PDMS芯片底部，利用所述PDMS芯片连通至所述基底玻片的抽气孔和所述芯片底部的负压真空通道进行真空负压密封，使所述基底玻片与PDMS芯片密封；

其中，所述PDMS芯片底部具有多个反应室，所述蛋白微图案区域与所述反应室一一对应设置；

步骤五、在所述PDMS芯片的加样孔中加入液体，所述液体分流后进入所述多个反应室，由所述反应室一侧流向另一侧对所述细胞图案进行流体剪切力刺激。

2.根据权利要求1所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，所述柱状凸起的截面形状为圆形、菱形或椭圆形；相邻两个柱状凸起的轴线之间的距离取值范围为25μm～200μm。

3.根据权利要求2所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，所述图案印章还包括多个条状凸起图案区域；

所述条状凸起图案区域包括多个平行等间距设置的条状凸起，所述条状凸起截面形状为矩形条状，宽度为1μm～3μm，相邻两个所述条状凸起之间的间隙宽度为1μm～3μm。

4.根据权利要求3所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，所述柱状凸起的高度为10μm；所述条状凸起的高度为1μm。

5.根据权利要求4所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，在所述步骤一中，对基底玻片进行预处理的方法为：

将基底玻片浸入重铬酸钾浓硫酸洗液中12小时以上，用流水冲掉剩余酸液后，用去离子水冲洗多次，浸入70～75％酒精溶液中超声清洗25～30分钟，再用去离子水清洗多次后，烘干或者氮气吹干。

6.根据权利要求5所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，在所述步骤一中，所述蛋白液为Cy5荧光标记的粘连蛋白或II型胶原蛋白；所述蛋白液的浓度为100μg/mL，滴加量为20μL。

7.根据权利要求5或6所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，在所述步骤二中，将所述图案印章在预处理后的所述基底玻片上静置12小时后，得到带有蛋白微图案的基底玻片。

8.根据权利要求7所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，在所述步骤二中，还包括：

用PBS将带有蛋白微图案的玻片冲洗多次，用5％的F127处理45～60分钟后，再用PBS清洗玻片多次。

9.根据权利要求8所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，在所述步骤三中，向所述培养皿中注入细胞悬液，放入CO₂培养箱中培养，孵育20～30分钟后，吸出细胞悬液；用PBS清洗基底玻片多次后，得到图案化精准定位的细胞；向所述培养皿中补加培养基后，再放入CO₂培养箱中培养4～10小时，使细胞图案化贴壁生长。

10.根据权利要求9所述的多剪切力微流控芯片中单细胞精准图案化方法，其特征在于，所述PDMS芯片包括：第一层和第二层；

多个分样通道，其开设在所述第一层内部，所述分样通道的入口端分别与所述加样孔的出口端连通；

其中，所述加样孔的入口端开设在所述第一层的上表面上；

多个分样孔，其与所述分样通道一一对应设置，并且所述分样孔的入口端与所述分样通道的出口端连通，所述分样孔的出口端开设在所述第一层的下表面上；

多个反应室进液孔，其为开设在所述第二层上的通孔，并且与所述分样孔一一对应连通；

多个反应室出液孔，其为开设在所述第二层上的通孔；

其中，所述反应室进液孔和所述反应室出液孔分别位于所述反应室的两端。