[发明专利]一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体及其制备方法

权利要求书

1.一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的同心环图案的可降解的药物缓释涂层为缓释药物组合物在人工晶状体表面旋涂形成，所述缓释药物组合物包括可降解聚合物、药物及有机溶剂。

2.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述可降解聚合物为聚乳酸-羟基乙酸共聚物、聚乳酸、聚羟基乙酸、聚羟基丁酸酯、乳酸-聚乙二醇共聚物、乳酸-聚丙二醇共聚物、聚ε-己内酯、聚氰基丙烯酸烷基酯、聚乳酸-聚乙二酸嵌段共聚物以及ε-己内酯与丙交酯嵌段共聚物中的一种或多种的混合。

3.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的有机溶剂为丙酮、二氯甲烷、三氯甲烷、N ,N-二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙醇、甲醇、乙腈、异丙醇、丙醇、石油醚、甲苯、四氢呋喃、己烷以及环己烷中的一种或多种任意比例的混合。

4.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述药物为抗代谢类药物、细胞毒性药物、免疫抑制剂、抗生素、非甾体抗炎药、糖皮质激素、抗迁移和抗粘附药物、光敏剂中的一种或多种的混合。

5.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述旋涂包括静态或动态滴胶、低速旋转铺胶、高速旋转甩胶三个连续的过程以及贯穿整个旋涂过程的溶剂蒸发，所得的的涂层其厚度表现为由中央向周边径向增加。

6.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的人工晶状体的材料是疏水型聚丙烯酸酯或硅凝胶。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1）将人工晶状体按照设计方案制备，清洗后备用；

2）缓释药物组合物的制备：将可降解聚合物、药物和有机溶剂均匀混合，得到缓释药物组合物；

3）药物缓释型人工晶状体的制备：采用匀胶机将步骤2）制备的缓释药物组合物旋涂到步骤1）制备的人工晶状体表面，使药物涂层中的有机溶剂挥发；

4）将步骤3）制备的药物缓释型人工晶状体消毒后密封包装。

8.根据权利要求7所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于：步骤2）中得到的旋涂溶液中，可降解聚合物的浓度5-50 mg/ml，药物浓度0.01-25 mg/ml。

9.根据权利要求8所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于：步骤3）中，匀胶机设定旋涂参数如下：低速旋转速度为500-1000 rpm，旋转时间为10-30s；高速旋转速度为1000-6000 rpm，旋转时间为10-60s；然后将步骤1）的人工晶状体居中放置在匀胶机的片托上，负压吸片，静态或动态滴胶，滴胶量为10-100μl；启动电机，按设置的旋涂参数运行；完成后停止电机；取片；晾干。