[发明专利]显示装置及其制造方法在审
申请号: | 202110571479.4 | 申请日: | 2021-05-25 |
公开(公告)号: | CN113764600A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 张大焕;金圣勋;金赫焕;南锡铉;朴倖源;赵鎭晧 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 李晓伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,包括:
第一基板,包括至少一个第一开口部分;
像素,设置在所述第一基板上;
至少一个第一散热层,设置在所述至少一个第一开口部分中;
绝缘层,设置在所述第一基板下面,并且包括与所述至少一个第一开口部分交叠的至少一个第二开口部分;以及
第二散热层,设置在所述至少一个第二开口部分中。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第二散热层设置在所述第一基板下面并且与所述绝缘层交叠。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第二散热层在所述至少一个第二开口部分中接触所述至少一个第一散热层。
4.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第二散热层设置为具有从所述绝缘层的底表面到所述至少一个第一散热层的底表面的台阶结构。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述至少一个第一散热层中的每个具有比所述第二散热层的厚度大的厚度。
6.根据权利要求1所述的显示装置,还包括:
蚀刻停止层,设置在所述第一基板和所述像素之间。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,所述至少一个第一散热层、所述第二散热层和所述蚀刻停止层包括金属材料。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,在平面视图中,所述至少一个第一开口部分、所述至少一个第二开口部分和所述至少一个第一散热层具有圆形形状、多边形形状或椭圆形形状。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述像素包括:
发光区域;以及
与所述发光区域相邻的非发光区域,在平面视图中,所述至少一个第一散热层与所述发光区域交叠。
10.根据权利要求9所述的显示装置,还包括:
第二基板,设置在所述第一基板上;
滤色器,设置在所述第二基板下面并且在平面视图中与所述发光区域交叠;以及
量子点层,设置在所述滤色器下面并且在平面视图中与所述发光区域交叠,其中,所述量子点层设置在所述像素上。
11.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述至少一个第一开口部分包括多个第一开口部分,
所述至少一个第二开口部分包括多个第二开口部分,并且
所述至少一个第一散热层包括多个第一散热层。
12.一种显示装置的制造方法,包括:
在第一基板下面形成绝缘层,所述第一基板包括第一去除部分和与所述第一去除部分相邻的第一外围部分;
在所述第一基板上形成像素;
去除在平面视图中与所述第一去除部分交叠的所述绝缘层的第二去除部分;
去除所述第一去除部分;
在所述第一基板的第一开口部分中形成第一散热层,所述第一开口部分通过去除所述第一去除部分而形成;以及
在所述绝缘层的第二开口部分中形成第二散热层,所述第二开口部分通过去除所述第二去除部分而形成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择