[发明专利]一种ITO靶材废靶循环利用方法在审
| 申请号： | 202110564896.6 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN113387682A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 曾墩风;王志强;石煜;陶成 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C04B35/453;C04B35/622;C04B35/626 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国(安徽)自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ito 靶材废靶 循环 利用 方法 | ||
1.一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：将ITO废靶放入汽化炉内，将炉内温度升高至4000-5000℃，ITO废靶在高温下直接汽化再冷却得到ITO粉，收集ITO粉，经过在氮气气氛下冷却，得到纯度4N，比表面6-8的ITO粉；
汽化炉升温呈梯度上升：0-30min升温至500℃，在此温度下放入ITO废靶，之后保温，30-40min升温至3000℃， 40-60min升温至4000-5000℃，之后保温，直至ITO废靶全部汽化，最后冷却，得到ITO粉；
ITO粉之后依次进行球磨得到纳米级ITO粉末、冷等静压制成ITO素胚、烧结制成高密度ITO靶材中间物、机加工、绑定，最终得到ITO靶材。
2.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述氮气0-3min充入速率为6L/min，之后充入速率为2L/min。
3.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述球磨具体为：将得到ITO粉放入球磨机依次进行球磨、砂磨、喷雾造粒后得到纳米级ITO粉末。
4.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述冷等静压具体为：将球磨制得的纳米级ITO粉末装于聚氨酯模具中，用冷等静压设备进行成型，制成ITO素胚。
5.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述烧结具体为：将冷等静压制成的ITO素胚置于高温氧气烧结炉中进行烧结，制成高密度ITO靶材中间物。
6.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述机加工具体为：将烧结制成高密度ITO靶材中间物进行内外圆磨、磨边机加工。
7.如权利要求1所述一种ITO靶材废靶循环利用方法，其特征在于：所述绑定具体为：将经过机加工后的高密度ITO靶材中间物绑定于钛管外表面。
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