[发明专利]集成电路的布局分析方法、装置、电子设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 202110563836.2 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN113283207A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 程画;晋大师;王毓千 申请(专利权)人: 海光信息技术股份有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/398
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云;侯鉴玻
地址: 300392 天津市华苑产业区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 集成电路 布局 分析 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种集成电路的布局分析方法,包括:

获取所述集成电路的布局中的至少一个目标数据路径,其中,所述目标数据路径为数据信号在所述集成电路中传播时依次经过的多个器件所形成的路径,所述多个器件包括第一器件、目标器件和第二器件,所述数据信号依次经过所述第一器件、所述目标器件和所述第二器件;

针对所述至少一个目标数据路径中每个目标数据路径,确定所述目标器件与所述第一器件之间的第一距离以及所述目标器件与所述第二器件之间的第二距离,并且确定所述第二器件与所述第一器件之间的第三距离;

基于所述第一距离、所述第二距离和所述第三距离,确定所述目标器件在所述目标数据路径中的迂回特征值;以及

基于每个所述目标器件的所述迂回特征值,生成所述集成电路的布局分析结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,基于所述第一距离、所述第二距离和所述第三距离,确定所述目标器件在所述目标数据路径中的所述迂回特征值,包括:

计算所述第一距离与所述第二距离之和与所述第三距离的差值;以及

计算所述差值与所述第三距离的比值,并且将所述比值作为所述迂回特征值。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,基于每个所述目标器件的所述迂回特征值,生成所述集成电路的布局分析结果,包括:

根据所述集成电路的布局建立二维坐标图,并且至少确定每个所述目标器件在所述二维坐标图中的目标位置;

根据每个所述目标器件在所述目标数据路径中的所述迂回特征值,确定每个所述目标器件对应的显示图像元素;以及

在每个所述目标器件位于所述二维坐标图中的所述目标位置,显示每个所述目标器件对应的所述显示图像元素。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述显示图像元素为单一颜色或图案。

5.根据权利要求3或4所述的方法,其中,所述迂回特征值的数值与所述迂回特征值对应的显示图像元素的颜色的色度负相关。

6.根据权利要求3所述的方法,其中,根据每个所述目标器件在所述目标数据路径中的所述迂回特征值,确定每个所述目标器件对应的显示图像元素,包括:

确定每个所述目标器件在所述目标数据路径中的所述迂回特征值所属的迂回特征值区间;以及

将所述迂回特征值区间对应的显示图像元素作为所述目标器件对应的显示图像元素。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述迂回特征值区间的平均数值与所述迂回特征值区间对应的显示图像元素的颜色的色度负相关。

8.根据权利要求6所述的方法,还包括:

获取所述至少一个目标数据路径的时序紧张程度表征参数;以及

根据所述时序紧张程度表征参数确定所述迂回特征值区间的宽度,

其中,所述时序紧张程度表征参数的数值与所述迂回特征值区间的宽度负相关。

9.根据权利要求1所述的方法,其中,获取所述集成电路的布局中的至少一个目标数据路径包括:

从所述集成电路的时序报告中获取所述集成电路的布局中的至少一个时序违例路径,并将所述至少一个时序违例路径作为所述至少一个目标数据路径。

10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述至少一个目标数据路径包括多个目标数据路径,并且所述多个目标数据路径中至少两个目标数据路径中的目标器件为同一个目标器件,

基于每个所述目标器件的所述迂回特征值,生成所述集成电路的所述布局分析结果,包括:

针对每个所述目标器件,将所述目标器件分别在所述至少两个目标数据路径中的迂回特征值进行比较,并确定所述目标器件对应的最大的迂回特征值,以及根据所述最大的迂回特征值,生成所述集成电路的所述布局分析结果;或者

针对每个所述目标器件,计算所述目标器件分别在所述至少两个目标数据路径中的迂回特征值的平均值,以及根据所述平均值,生成所述集成电路的所述布局分析结果。

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