[发明专利]光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法

权利要求书

1.一种双重图形曝光的光掩模修正方法，包括：

获得光掩模布局目标图；

分解该光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图，该些光掩模布局子图于连结区域重叠，其中布局机器学习模型依据该光掩模布局目标图分析出该连结区域的尺寸，该布局机器学习模型依据蚀刻后三维信息建立；以及

对该些光掩模布局子图执行光学邻近校正程序。

2.如权利要求1所述的双重图形曝光的光掩模修正方法，其中该蚀刻后三维信息根据扫描电子显微镜获得。

3.如权利要求1所述的双重图形曝光的光掩模修正方法，其中该蚀刻后三维信息包含剖面信息。

4.如权利要求1所述的双重图形曝光的光掩模修正方法，其中在对该些光掩模布局子图执行该光学邻近校正程序的步骤中，该些光掩模布局子图依序被执行该光学邻近校正程序。

5.如权利要求1所述的双重图形曝光的光掩模修正方法，其中在对该些光掩模布局子图执行该光学邻近校正程序的步骤中，该些光掩模布局子图同时被执行该光学邻近校正程序。

6.一种双重图形曝光的光掩模修正装置，包括：

输入单元，用以获得光掩模布局目标图；

分解单元，用以分解该光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图，该些光掩模布局子图于连结区域重叠；

布局机器学习模型，用以依据该光掩模布局目标图分析出该连结区域的尺寸，该布局机器学习模型依据蚀刻后三维信息建立；以及

光学邻近校正单元，用以对该些光掩模布局子图执行光学邻近校正程序。

7.如权利要求6所述的双重图形曝光的光掩模修正装置，其中该蚀刻后三维信息根据扫描电子显微镜获得。

8.如权利要求7所述的双重图形曝光的光掩模修正装置，其中该蚀刻后三维信息包含剖面信息。

9.如权利要求7所述的双重图形曝光的光掩模修正装置，其中该光学邻近校正单元依序对该些光掩模布局子图执行该光学邻近校正程序。

10.如权利要求7所述的双重图形曝光的光掩模修正装置，其中该光学邻近校正单元同时对该些光掩模布局子图执行该光学邻近校正程序。

11.一种布局机器学习模型的训练方法，包括：

获得光掩模布局目标图；

分解该光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图，该些光掩模布局子图于连结区域重叠；

根据该些光掩模布局子图获得二子光掩模；

以该些子光掩模对训练样本执行曝光显影程序与蚀刻程序；

获得该训练样本的蚀刻后三维信息；以及

根据该光掩模布局目标图、该连结区域的尺寸与该蚀刻后三维信息训练该布局机器学习模型。

12.如权利要求11所述的布局机器学习模型的训练方法，其中该蚀刻后三维信息根据扫描电子显微镜获得。

13.如权利要求11所述的布局机器学习模型的训练方法，其中该蚀刻后三维信息包含剖面信息。