[发明专利]用于确定MS扫描数据中的干扰、过滤离子并对样品进行质谱分析的方法和装置在审

专利信息
申请号: 202110551806.X 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN113740408A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: C·托因格;A·詹纳考普洛斯 申请(专利权)人: 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N1/34
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 周全;陈洁
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 ms 扫描 数据 中的 干扰 过滤 离子 样品 进行 谱分析 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种确定对应于MS扫描数据中前体分子的同位素分布的特定峰的一个或多个干扰参数的方法,其中所述MS扫描数据包含多个峰,每个峰具有质荷比和相对丰度,其中所述同位素分布包含多个峰的子集,其中所述一个或多个干扰参数包含所述特定峰的峰纯度pi,所述方法包含:

确定不存在与所述同位素分布有关的干扰峰,并且确定所述特定峰的所述峰纯度pi应是最大纯度值;或

从所述MS扫描数据中鉴别一个或多个干扰峰,其中所述一个或多个干扰峰不属于所述同位素分布的峰的所述子集,并且基于以下各者确定所述特定峰的所述峰纯度pi

所述特定峰的相对丰度Ii,和

所述一个或多个干扰峰的相对丰度。

2.根据权利要求1所述的方法,其中基于所述一个或多个干扰峰的所述相对丰度确定所述特定峰的所述峰纯度pi包含选择所述一个或多个干扰峰的第一干扰峰并且基于所述第一干扰峰的所述相对丰度Iinterf确定所述特定峰的所述峰纯度pi

3.根据权利要求2所述的方法,其中所述干扰峰是具有高于干扰阈值的相对丰度的最接近的干扰峰,使得所述第一干扰峰的质荷比比不属于所述同位素分布中的峰的所述子集并且具有高于所述干扰阈值的相对丰度的所述MS扫描数据中的任何其它峰更接近所述同位素分布的所述特定峰的质荷比。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的方法,其中所述一个或多个干扰参数还包含所述特定峰的干扰距离dinterf,其中所述干扰距离dinterf基于所述特定峰的所述质荷比Mi与所述第一干扰峰的所述质荷比Minterf之间的差。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述一个或多个干扰参数还包含所述同位素分布的同位素m/z窗口wISD,其中所述同位素m/z窗口界定包括具有高于包括阈值的相对丰度的所述同位素分布的每个峰的质荷比的范围。

6.根据权利要求5所述的方法,其中:

i)所述同位素m/z窗口以所述同位素分布的最丰富的峰的质荷比M0为中心,所述峰在所述同位素分布中具有峰的最高相对丰度I0,并且其中所述同位素m/z窗口的半宽wISD/2界定为所述同位素分布的最丰富峰的所述质荷比与所述同位素分布的最远显著峰的质荷比之间的绝对差,其中所述最远显著峰具有:

a)高于所述包括阈值的相对丰度;和

b)离所述同位素分布中最丰富的峰最远的质荷比,使得所述最远显著的峰和所述最丰富的峰的质荷比之间的所述绝对差大于所述最丰富的峰与在所述同位素分布中具有高于所述包括阈值的相对丰度的任何其它峰的质荷比之间的所述绝对差;

ii)确定不存在与所述同位素分布有关的干扰峰包含确定由所述同位素m/z窗口界定的质荷比的范围不含有不属于所述同位素分布的峰的所述子集并且具有高于干扰阈值的相对丰度的任何峰;和/或

iii)从所述MS扫描数据鉴别一个或多个干扰峰包含鉴别具有所述同位素m/z窗口内的质荷比并且具有高于干扰阈值的相对丰度的峰。

7.根据权利要求5或权利要求6所述的方法,其中所述一个或多个干扰参数还包含所述同位素分布的同位素纯度pISD,所述方法还包含:

确定属于同位素分布的峰的所述子集的总相对丰度Siso

确定所述MS扫描中具有处于由所述同位素m/z窗口界定的所述范围内的质荷比的所有峰的总相对丰度;和

使用峰的所述子集的所述总相对丰度Siso和所述同位素m/z窗口中的所有所述峰的所述总相对丰度来确定所述同位素纯度pISD

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