[发明专利]菲涅耳透镜及其形成方法

权利要求书

1.一种菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，所述菲涅耳透镜的形成方法包括：

提供一基板；

图案化该基板，以形成多个锯齿状的同心环，每个同心环均具有一阶梯结构，其中至少一同心环的该阶梯结构的上下两阶梯之间具有一尖头；

氧化该尖头，以形成一氧化层；以及

移除该氧化层。

2.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，形成该氧化层的步骤更包括氧化该阶梯结构的上表面及侧表面。

3.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，在移除该氧化层之后，所述菲涅耳透镜的形成方法更包括于一下阶梯的上表面与一上阶梯的侧表面的交界处形成一圆角。

4.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，该氧化层的厚度与该尖头的宽度的比例为1.5～2.5。

5.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，图案化该基板的步骤包括依序通过一第一图案化遮罩所执行的第一图案化步骤与通过一第二图案化遮罩所执行的第二图案化步骤，其中第一图案化遮罩的间距小于第二图案化遮罩的间距。

6.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，该同心环围绕一中心区域，且该中心区域在图案化该基板的步骤之前与图案化该基板的步骤之后的高度不变。

7.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，该阶梯结构中的每个阶梯具有一阶梯高度，且该基板的最顶表面到该尖头的距离与该阶梯高度的比例为0.5～4。

8.根据权利要求1所述的菲涅耳透镜的形成方法，其特征在于，在图案化该基板之前，菲涅耳透镜的形成方法更包括于该基板上形成一垫氧化层；以及在该图案化该基板之后，菲涅耳透镜的形成方法更包括移除该垫氧化层。

9.一种菲涅耳透镜，其特征在于，所述菲涅耳透镜包括一基板，且该基板包括多个锯齿状的同心环，每个同心环均具有一阶梯结构，其中至少一同心环的该阶梯结构的一下阶梯的上表面与一上阶梯的侧表面的交界处具有一圆角。

10.根据权利要求9所述的菲涅耳透镜，其特征在于，每个同心环的阶梯结构都具有相同的阶梯数，该阶梯结构的每个上阶梯与下阶梯之间均具有一圆角，其中每个上阶梯与下阶梯之间的每个圆角具有大致上相同的曲率半径。