[发明专利]用于防污的自清洁基材表面涂层及其制造方法在审
| 申请号： | 202110545059.9 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113337794A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 张平;吴琼;徐晓兰;陈永红 | 申请（专利权）人： | 重庆慧雍应用技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/12;C23C14/24;B05D1/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 聂红霞 |
| 地址： | 400040 重庆市渝*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 防污 清洁 基材 表面 涂层 及其 制造 方法 | ||
1.用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、将基材用酒精清洗2-3次后晾干；
步骤2、打开精密激光微孔机，将步骤1中晾干后的基材置于工作台，对基材连续打孔；
步骤3、将打孔后的基材用盐酸清洗，再分别用去离子水和酒精冲洗，烘干备用；
步骤4、在真空条件下，将高分子化合物作为靶材，通过热蒸发的方式对步骤3烘干后的基材镀膜处理。
2.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，步骤2打孔前，设置参数，具体为精密激光微孔机的波长355nm，激光头到基材距离为20-40cm，打孔深度3-5um，孔间距30-50um，孔径20-30um。
3.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，步骤3中盐酸浓度为2％-5％。
4.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，步骤4，真空条件的气压为10-4-10-3Pa。
5.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，高分子化合物为聚四氟乙烯或聚全氟乙丙烯。
6.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，镀膜的厚度为
7.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，镀膜处理的时间为10-20min。
8.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，基材为玻璃或陶瓷。
9.根据权利要求1所述的用于防污的自清洁基材表面涂层的制造方法，其特征在于，热蒸发时的电流330-350A。
10.用于防污的自清洁基材表面涂层，如权利要求1-9任一项所述的方法制得。
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