[发明专利]一种任意互连HDI板的对位方法在审

专利信息
申请号: 202110525121.8 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN113286434A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 陈志新;邹金龙;位珍光 申请(专利权)人: 宜兴硅谷电子科技有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/46;H05K3/06
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 任立
地址: 214203 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 任意 互连 hdi 对位 方法
【说明书】:

发明公开了一种任意互连HDI板的对位方法,包括:(1)压合:对基板进行压合,压合后采用X‑Ray机中心见靶钻的方式,钻出3个L靶和4个板角CCD定位靶孔;(2)镭射:以4个板角CCD定位靶孔进行预定位,镭射先烧出4个板角的凹靶,然后抓取凹靶中靶点,自动拉伸镭射钻带进行镭射钻孔,同时镭射烧出LDI凸靶;(3)线路LDI曝光:增层制作线路图形转移时,LDI机抓取凸靶自动系数对位曝光,同时在板角指定的位置制作下一次增层所需的对位标靶,以此类推;该方法简单易行,进行优化HDI产品对位标靶设计,增加凹靶和凸靶,令HDI板在增层制作的过程中,PCB基板、镭射钻孔、线路增层始终如一,在统一的涨缩下进行生产,有效的保障了HDI任意互连盲孔堆叠的对位精度。

技术领域

本发明涉及一种任意互连HDI板的盲孔堆叠对位方法,属于印制电路板制作技术领域。

背景技术

基于印制电路HDI板,任意互连产品结构,盲孔堆叠对位的关键技术领域。原有技术为使用3.175mm的7个靶孔(3个L靶+4个CCD靶)进行对位制作,因该CCD靶孔为压合后X-Ray钻出,为镭射、钻孔、线路制作提供共同的对位标靶(定位),在生产的过程中因板子涨缩问题,靶孔容易受损,线路对位曝光时抓靶偏位,从而导致HDI盲堆叠偏孔异常。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,克服现有技术的缺点,提供一种任意互连HDI板的对位方法,该方法简单易行,在原有技术的基础上,进行优化HDI产品对位标靶设计,增加镭射对位内靶凹靶,和LDI对位镭射环形标靶凸靶,令HDI板在增层制作的过程中,PCB基板、镭射钻孔、线路增层始终如一,在统一的涨缩下进行生产,有效的保障了HDI任意互连盲孔堆叠的对位精度。

为了解决以上技术问题,本发明提供一种任意互连HDI板的对位方法,具体包括以下步骤:

(1)压合

对L1-3层基板进行压合形成多层板,完成压合后,采用X-Ray机中心见靶钻的方式,钻出3.175mm的7个通孔靶标,7个通孔靶标包括3个L靶和4个板角CCD定位靶孔;

(2)镭射

以步骤(1)中的4个板角CCD定位靶孔进行预定位,镭射先烧出4个板角的凹靶,然后抓取凹靶中靶点,自动拉伸镭射钻带进行镭射钻孔,同时镭射烧出4个LDI凸靶,使其镭射盲孔的位置精度与凸靶的坐标系数保持一致;

(3)线路LDI曝光

增层制作线路图形转移时,LDI机抓取凸靶自动系数对位曝光,使其图形转移的系数与PCB板实物、镭射钻孔系数一致,同时在板角指定的位置制作下一次增层所需的对位标靶,对位标靶为7个通孔靶标图案和4个镭射凹靶靶点的图案,,以此类推。

本发明进一步限定的技术方案是:

进一步的,前述任意互连HDI板的对位方法中,步骤(2)镭射烧出4个板角的凹靶,凹靶采用L1-3层的方法设计,L1、L3 层为全铜皮,L2层负蚀刻直径0.8mm的圆,镭射该凹靶的尺寸为3.5*3.5mm的方形,在L2层铜皮处镭射出一个直径0.8mm的圆孔,具体操作为:

首先学习板角的4个3.175mm的CCD定位靶孔进行预定位,然后镭射烧出4个角的N-1凹靶,最后镭射机自动学习凹靶,并自动拉伸系数进行镭射钻孔,使其镭射钻出的盲孔落在盲孔底PAD的设计中心位置,任意互连HDI板在每次增层制作时均沿用此方法,依此类推。

前述任意互连HDI板的对位方法中,L1、L3 层为全铜皮。

前述任意互连HDI板的对位方法中,步骤(2)镭射烧出LDI凸靶,具体操作为:

凸靶采用L1-2层的方法进行设计,L1、L2层为全铜皮,在镭射钻孔的同时, 镭射烧出一个环形内径63mil、外径92mil的圆环,使其在PCB表面平行制作出一个凸台形成凸靶;

此凸台将作为LDI线路曝光对位定位靶点,LDI采取自动系数对位曝光作业,使其图形与镭射盲孔一一对应,满足盲孔堆叠对位±1mil的对位精度要求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜兴硅谷电子科技有限公司,未经宜兴硅谷电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110525121.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top