[发明专利]水听器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202110506738.5 申请日: 2021-05-10
公开(公告)号: CN113075726B 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 焦文龙;曾怀望;李鑫;李嗣晗 申请(专利权)人: 联合微电子中心有限责任公司
主分类号: G01V1/18 分类号: G01V1/18;G01H11/08
代理公司: 北京市汉坤律师事务所 11602 代理人: 初媛媛;吴丽丽
地址: 401332 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 水听器 及其 制造 方法
【说明书】:

本公开提供了一种水听器及其制造方法。该水听器包括:薄膜,被配置用于响应于动态声压和静态水压而产生物理形变;压电结构,被配置用于响应于物理形变而生成第一感测信号;以及压阻结构,被配置用于响应于物理形变而生成第二感测信号。

技术领域

本公开涉及半导体技术领域,特别是涉及一种水听器及其制造方法。

背景技术

基于压电技术的薄膜结构MEMS水听器具有灵敏度高、功耗低等特点。但是,受到压电效应检测原理的限制,薄膜结构类压电MEMS水听器仅能检测动态声压,对于使用环境下的静态水压则无法识别。

水听器使用环境下的静态水压会影响MEMS水听器薄膜结构的变形,进一步影响其检测灵敏度的准确性。另外,如果静态水压过大也会导致薄膜结构的损坏。

发明内容

提供一种缓解、减轻或者甚至消除上述问题中的一个或多个的机制将是有利的。

根据本公开的一些实施例,提供了一种水听器,包括:薄膜,被配置用于响应于动态声压和静态水压而产生物理形变;压电结构,被配置用于响应于所述物理形变而生成第一感测信号;以及压阻结构,被配置用于响应于所述物理形变而生成第二感测信号。

根据本公开的一些实施例,还提供了一种水听器的制造方法,包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底的第一表面处形成压电结构和压阻结构;以及在所述半导体衬底的与所述第一表面相对的第二表面形成凹槽,从而使所述半导体衬底的至少一部分形成薄膜,所述凹槽关于所述薄膜与所述压阻结构和压电结构相对。

根据在下文中所描述的实施例,本公开的这些和其它方面将是清楚明白的,并且将参考在下文中所描述的实施例而被阐明。

附图说明

在下面结合附图对于示例性实施例的描述中,本公开的更多细节、特征和优点被公开,在附图中:

图1是根据本公开示例性实施例的水听器的剖面示意图;

图2A-图2D是根据本公开示例性实施例的水听器的平面结构示意图;

图3是根据本公开示例性实施例的水听器的制造方法的流程图;

图4是根据本公开示例性实施例的图3的方法中形成压电结构和压阻结构的示例过程的流程图;

图5A至图5F是根据本公开示例性实施例的图3的方法各个步骤中所形成的水听器的示例结构的剖面示意图;

图6是根据本公开示例性实施例的图3的方法中形成压电结构和压阻结构的示例过程的流程图;并且

图7A至图7G是根据本公开示例性实施例的图3的方法各个步骤中所形成的水听器的示例结构的剖面示意图。

具体实施方式

将理解的是,尽管术语第一、第二、第三等等在本文中可以用来描述各种元件、部件、区、层和/或部分,但是这些元件、部件、区、层和/或部分不应当由这些术语限制。这些术语仅用来将一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分相区分。因此,下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可以被称为第二元件、部件、区、层或部分而不偏离本公开的教导。

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