[发明专利]一种超分子自组装合成的C-g-C3

权利要求书

1.一种超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料的制备方法，其特征在于：所述材料具有介孔结构，其平均孔径为2~20 nm，比表面积为20.6 m²/g，其包括以下步骤：

（1）高温煅烧法制备C-g-C₃N₄：将三聚氰胺溶于去离子水中，加入壳聚糖混合均匀；将溶液置于烘箱中蒸发结晶，将结晶粉末置于马弗炉中550 ℃煅烧4小时，升温速率为5 ℃/min，得到C-g-C₃N₄；

（2）水热法制备C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂：将溴化1-辛基-3-甲基咪唑和曲拉通在水溶剂中混合搅拌3小时，记作溶液A；将五水合硝酸铋超声溶解于稀硝酸溶液中，加入C-g-C₃N₄超声溶解30分钟，记作溶液B；将溶液B缓慢滴加至溶液A中，混合均匀后滴加氢氧化钠溶液至pH为10.5，随后搅拌30分钟，将溶液置于水热反应釜中于160 ℃下水热反应12小时；将水热反应生成的固体用去离子水和无水乙醇交替洗涤并80 ℃烘干，得到C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂。

2.根据权利要求1所述的超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料的制备方法，其特征在于：步骤（1），三聚氰胺/壳聚糖的质量比为100:1。

3.根据权利要求1所述的超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料的制备方法，其特征在于：步骤（2），五水合硝酸铋/溴化1-辛基-3-甲基咪唑的摩尔比为2:1。

4.根据权利要求1所述的超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料的制备方法，其特征在于：步骤（2），反应体系中控制原料加入量，使C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂的质量比为0.001~0.05。

5.如权利要求1-4任一制备方法得到的超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料。

6.如权利要求5所述的超分子自组装合成的C-g-C₃N₄/Bi₄O₅Br₂复合光催化材料的应用，其特征在于：其用于可见光或太阳光照射下进行水体有机污染物的光催化降解。