[发明专利]多层滤光结构及其制作方法

说明书

本发明提供一种多层滤光结构及其制作方法，前述的多层滤光结构包含一基板、一滤光层以及一图案化遮光层，前述的多层滤光结构的制作方法包含提供一基板、进行一滤光层沉积步骤、进行一光阻涂布步骤、进行一选择性曝光步骤、进行一遮光层沉积步骤以及进行一光阻剥离步骤。借此，可得具有多种可选颜色及高测距准确度或高侦测准确度的多层滤光结构。

技术领域

本发明是有关于一种多层滤光结构及其制作方法，特别是一种具有多种可选颜色及高测距准确度或高侦测准确度的多层滤光结构及其制作方法。

背景技术

滤光片可以穿透或截止特定波长或波段的光，常用来提高光信号强度或成像的清晰度，在诸如摄影、光学仪器、照明设备、面板等领域均有广泛应用。

滤光片亦可通过其通带范围区分为数种种类，其中近红外光滤光片可使接近可见光波段的红外光穿透滤光片结构，然传统近红外光滤光片其颜色因其性质多受限于深色，导致其美观性或隐蔽性受限，且传统近红外光滤光片在应用于测距、侦测等范畴的设备时，常因侦测到环境光源或设备自身发射的光线反射等杂讯造成侦测准确度下降。

综上所述，发展一种具有多种可选颜色及可提高测距或侦测准确度的多层滤光结构及其制作方法，实为一重要的发展目标。

发明内容

本发明的一目的在于提供一种多层滤光结构及其制作方法，通过图案化遮光层的设置降低侦测杂讯，及通过滤光片材质的选择调整多层滤光结构的颜色，达到提升多层滤光结构的侦测准确度，并提升其美观性及隐蔽性的效果。

本发明的一实施方式提供一种多层滤光结构，包含一基板、一滤光层以及一图案化遮光层。滤光层设置于基板的表面，所述滤光层具有一第一表面，第一表面远离于基板，且滤光层包含多个高折射率薄膜以及多个低折射率薄膜，其中低折射率薄膜与高折射率薄膜相互交叠设置。图案化遮光层设置于滤光层的第一表面，所述图案化遮光层包含多个金属材料膜以及多个介电质膜，其中介电质膜与金属材料膜相互交叠设置。

依据前述的多层滤光结构，其中滤光层在光波长为700nm至1400nm可具有至少一通带，且所述至少一通带的穿透率为T₁，其可满足下列条件：T₁70％。更佳地，T₁95％。

依据前述的多层滤光结构，其中波长为400nm至1400nm的光于各高折射率薄膜的折射率为n₁，波长为400nm至700nm的光于各高折射率薄膜的消光系数为k₁₁，波长为800nm至1400nm的光于各高折射率薄膜的消光系数为k₁₂，波长为400nm至1400nm的光于各低折射率薄膜的折射率为n₂，波长为400nm至1400nm的光于各低折射率薄膜的消光系数为k₂，其可满足下列条件：k₁₁0.01；k₁₂0.01；k₂0.01及n₁n₂。

依据前述的多层滤光结构，其中高折射率薄膜可为氧化铝薄膜、二氧化钛薄膜、五氧化二钽薄膜、五氧化二铌薄膜、氢化硅薄膜、氮化硅薄膜、氢化锗薄膜、二氧化锆薄膜或其混合物薄膜，低折射率薄膜可为氧化铝薄膜、二氧化钛薄膜、五氧化二钽薄膜、五氧化二铌薄膜、氢化硅薄膜、氮化硅薄膜、氟化镁薄膜或其混合物薄膜。

依据前述的多层滤光结构，其中各高折射率薄膜的一厚度为3nm至800nm，各低折射率薄膜的一厚度为3nm至800nm。

依据前述的多层滤光结构，其中滤光层可具有黑色、蓝色、绿色、黄色或红色的一颜色，且滤光层在CIELAB色彩空间座标中的L^*值40。