[发明专利]多层滤光结构及其制作方法

权利要求书

1.一种多层滤光结构，其特征在于，包含：

一基板；

一滤光层，设置于该基板的一表面，该滤光层具有一第一表面，该第一表面远离于该基板，且该滤光层包含：

多个高折射率薄膜；及

多个低折射率薄膜，其中所述多个低折射率薄膜与所述多个高折射率薄膜相互交叠设置；以及

一图案化遮光层，设置于该滤光层的该第一表面，该图案化遮光层包含：

多个金属材料膜；及

多个介电质膜，其中所述多个介电质膜与所述多个金属材料膜相互交叠设置。

2.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，该滤光层在光波长为700nm至1400nm具有至少一通带，且该至少一通带的穿透率为T₁，其满足下列条件：

T₁70％。

3.根据权利要求2所述的多层滤光结构，其特征在于，该至少一通带的穿透率为T₁，其满足下列条件：

T₁95％。

4.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，波长为400nm至1400nm的光于各该高折射率薄膜的折射率为n₁，波长为400nm至700nm的光于各该高折射率薄膜的消光系数为k₁₁，波长为800nm至1400nm的光于各该高折射率薄膜的消光系数为k₁₂，波长为400nm至1400nm的光于各该低折射率薄膜的折射率为n₂，波长为400nm至1400nm的光于各该低折射率薄膜的消光系数为k₂，其满足下列条件：

k₁₁0.01；

k₁₂0.01；

k₂0.01；及

n₁n₂。

5.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，所述多个高折射率薄膜为氧化铝薄膜、二氧化钛薄膜、五氧化二钽薄膜、五氧化二铌薄膜、氢化硅薄膜、氮化硅薄膜、氢化锗薄膜、二氧化锆薄膜或其混合物薄膜，所述多个低折射率薄膜为氧化铝薄膜、二氧化钛薄膜、五氧化二钽薄膜、五氧化二铌薄膜、氢化硅薄膜、氮化硅薄膜、氟化镁薄膜或其混合物薄膜。

6.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，各该高折射率薄膜的一厚度为3nm至800nm，各该低折射率薄膜的一厚度为3nm至800nm。

7.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，该滤光层具有黑色、蓝色、绿色、黄色或红色的一颜色，且该滤光层在CIELAB色彩空间座标中的L*值40。

8.根据权利要求1所述的多层滤光结构，其特征在于，该滤光层在光波长为400nm至700nm的反射率为R₁，该滤光层在光波长为400nm至700nm的穿透率为T₂，该滤光层在光波长为400nm至700nm的吸收率为A₁，其满足下列条件：

R₁20％；

T₂20％；及

A₁70％。

9.根据权利要求8所述的多层滤光结构，其特征在于，该滤光层在光波长为400nm至700nm的反射率为R₁，该滤光层在光波长为400nm至700nm的穿透率为T₂，该滤光层在光波长为400nm至700nm的吸收率为A₁，其满足下列条件：

R₁5％；

T₂1％；及

A₁95％。