[发明专利]化学水浴沉积装置及其使用方法

说明书

本发明公开一种化学水浴沉积装置及其使用方法，该化学水浴沉积装置包括水浴锅和化学槽；所述水浴锅的内部空腔安装有所述化学槽，所述水浴锅的内部空腔用于容置水，所述化学槽的内部空腔用于容置化学镀液和基片；所述化学槽的顶面开口，所述化学槽的底面封闭，且所述化学槽的底面向上凸起形成凸台，以使所述化学槽的底部形成凹槽；所述凹槽能够与所述水浴锅的内部空腔连通，所述化学槽的外侧面和所述凹槽的槽壁均能够与所述水浴锅内的水接触。本发明中，使化学槽的底面向上凸起，以使化学槽的底部形成有能够与水浴锅的内部空腔连通的凹槽，增大了化学槽与水浴锅内的水的接触面积，同时还减少了化学镀液的体积，因而能够缩短化学镀液的升温时间。

技术领域

本发明涉及水浴沉积装置领域，具体涉及一种化学水浴沉积装置及一种化学水浴沉积装置的使用方法。

背景技术

目前，薄膜材料存在多种制备方法，包括磁控溅射法、丝网印刷法、电沉积法以及化学水浴沉积法(Chemical Bath Deposition，简称为CBD)等制备方法。在上述各种方法中，化学水浴沉积法属于非真空制备法，具有装置的结构简单、沉积温度低以及能耗小等优点，因而受到了科研界和产业界的广泛青睐。

现有的化学水浴沉积法，通常将基片放入容置有化学镀液的化学槽中，再将该化学槽放入水浴锅中进行水浴加热处理，以使基片上沉积而得到薄膜材料。但是，现有的化学槽内的化学镀液升温慢。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种化学水浴沉积装置及一种化学水浴沉积装置的使用方法，旨在解决化学槽内的化学镀液升温慢的问题。

为实现上述目的，本发明提出的一种化学水浴沉积装置包括水浴锅和化学槽；

所述水浴锅的内部空腔安装有所述化学槽，所述水浴锅的内部空腔还用于容置水，所述化学槽的内部空腔用于容置化学镀液和基片；

所述化学槽的顶面开口，所述化学槽的底面封闭，且所述化学槽的底面向上凸起形成凸台，以使所述化学槽的底部形成凹槽；

所述凹槽能够与所述水浴锅的内部空腔连通，所述化学槽的外侧面和所述凹槽的槽壁均能够与所述水浴锅内的水接触。

进一步地，所述化学槽为圆柱形化学槽，所述凸台为圆柱形凸台。

进一步地，所述化学水浴沉积装置还包括一对弧形支座；

一对所述弧形支座安装于所述水浴锅的内底面，且这对所述弧形支座相对设置；所述弧形支座上架设有所述化学槽。

进一步地，所述化学水浴沉积装置还包括至少一个U形连接件；

所述U形连接件包括杆部，所述杆部的两端分别弯折延伸形成弯折部，所述U形连接件的两个所述弯折部之间形成开口；

所述U形连接件设于所述圆柱形化学槽的内部空腔，所述U形连接件的所述开口朝向所述圆柱形凸台，且所述U形连接件的两个所述弯折部均设于所述圆柱形凸台的外侧；

所述U形连接件的两个所述弯折部分别连接有所述基片。

进一步地，所述化学水浴沉积装置还包括密封盖和驱动组件；

所述杆部的中部转动连接于所述圆柱形凸台的顶部；

所述圆柱形化学槽的顶面可拆卸地连接有所述密封盖；

所述密封盖的背离所述圆柱形化学槽的一面连接有所述驱动组件，所述驱动组件与所述U形连接件连接，以驱动所述U形连接件转动，进而带动所述基片绕所述圆柱形凸台的中轴线转动。

进一步地，所述驱动组件包括驱动电机和转动杆；