[发明专利]玻璃制品及其制备方法、电子设备盖板及电子设备

权利要求书

1.玻璃制品，包括玻璃基板以及形成于所述玻璃基板表面的抗眩光结构，其特征在于，所述抗眩光结构包括形成于所述玻璃基板表面的第一纹理微结构，以及形成于所述第一纹理微结构表面的第二纹理微结构，所述第一纹理微结构包括第一凸部和第一凹部，所述第二纹理微结构包括第二凸部和第二凹部，所述第二凸部的跨度小于所述第一凸部的跨度，且所述第二凹部的跨度小于所述第一凹部的跨度。

2.如权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部和所述第二凹部的表面均为平滑曲面；

或者，所述第二凸部和所述第二凹部的表面均为雾面。

3.如权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凹部的跨度小于或等于所述第一凹部的跨度的1/2。

4.如权利要求1-3任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部的高度小于所述第一凸部的高度；

和/或，所述第二凹部的深度小于所述第一凹部的深度。

5.如权利要求1-3任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部的高度小于或等于所述第一凸部的高度的1/2；

和/或，所述第二凹部的深度小于或等于所述第一凹部的深度的1/2。

6.电子设备盖板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的玻璃制品。

7.电子设备，其特征在于，包括权利要求6所述的电子设备盖板。

8.权利要求1-5任一项所述玻璃制品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

表面预处理；

至少两次蒙砂处理；其中，第一次蒙砂处理用于制备第一纹理微结构，剩余次蒙砂处理用于制备第二纹理微结构；

清洗处理；

抛光处理，得到玻璃制品。

9.如权利要求8所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述第一次蒙砂处理所用蒙砂蚀刻液包括重量份比为10-15：1-3：4-7：5-8：6-9：3-5的氟化氢铵、氟化钙、硫酸钾、氢氧化钠、水和氟化钠；

所述剩余次蒙砂处理所用蒙砂蚀刻液包括重量份比为12-18：2-4：6-9：8-10：9-13：4-6的氟化氢铵、氟化钙、硫酸钾、氢氧化钠、水和氟化钠。

10.如权利要求9所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述至少两次蒙砂处理中第二次蒙砂处理所用蒙砂蚀刻液包括重量份比为12：2：8：10：12：5的氟化氢铵、氟化钙、硫酸钾、氢氧化钠、水和氟化钠。

11.如权利要求10所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述蒙砂蚀刻液的制备方法包括以下步骤：

按照各原料的重量份比配料；

将氟化氢铵、氟化钙、硫酸钾、氢氧化钠和水搅拌融合；

加入氟化钠，搅拌熟化48-72h。

12.如权利要求11所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述至少两次蒙砂处理步骤中各次蒙砂处理包括以下步骤：

将玻璃基板放入蒙砂蚀刻液进行浸泡；

浸泡60-90s后取出，冲洗干净。

13.如权利要求8-12任一项所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述玻璃制品的制备方法还包括位于所述表面预处理步骤之前的覆膜步骤，所述覆膜步骤包括以下步骤：

在玻璃基板中不需要进行蚀刻的表面涂覆耐酸油墨。

14.如权利要求8-12任一项所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述表面预处理步骤包括以下步骤：

用浓度为2-6％的氢氟酸溶液清洗玻璃基板的待蚀刻面，清洗时长为60-90s；

冲洗干净。

15.如权利要求8-12任一项所述的玻璃制品的制备方法，其特征在于，所述抛光处理步骤包括以下步骤：

用浓度为5％-10％的氢氟酸溶液喷淋抛光，喷淋时长为3-5min。