[发明专利]太鼓环去除方法及用于太鼓环去除的定位装置在审
申请号: | 202110467221.X | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN113172778A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 蔡永慧;谭秀文;苏亚青 | 申请(专利权)人: | 华虹半导体(无锡)有限公司 |
主分类号: | B28D5/00 | 分类号: | B28D5/00;B23K26/36;B23K26/402;B23K26/70 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭立 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太鼓环 去除 方法 用于 定位 装置 | ||
本发明公开了一种太鼓环去除方法,采用太鼓工艺对晶圆进行加工减薄,将所述晶圆的中间部分减薄至预设厚度,所述晶圆的边缘部分形成太鼓环;步骤S2,将所述晶圆固定至框架上;步骤S3,将所述框架放置在切割设备台盘上,使用定位装置对所述晶圆进行定位;本发明还公开了一种用于太鼓环去除的定位装置。
技术领域
本发明涉及一种半导体集成电路的制造方法,特别是涉及一种太鼓(Taiko)环去除方法及其定位装置。
背景技术
半导体集成电路技术的发展,晶圆越来越薄,晶圆减薄除了有效减少后续封装材料体积外,还可降低导通阻抗,进而减少热能累积效应,以增加芯片的使用寿命。但如何在减薄工艺中降低晶圆厚度,又同时兼顾晶圆强度,降低破损率,是晶圆加工工艺所研究的技术重点之一。
日本Disco公司开发了一种太鼓(Taiko)减薄工艺,于以往的背面研磨不同,在对晶圆进行研磨时,将保留晶圆外围边缘部分(约3mm左右),只对圆内进行研磨。在晶圆外圈形成较厚的环,被称为太鼓(Taiko)环。这样在晶圆后续的搬运和加工过程中,利用这圈较厚的环来保持整个晶圆的机械强度。然后在后续工艺步骤中需要去除太鼓环,现有技术中公开了多种去除太鼓环的方法,来防止切割太鼓环时导致晶圆破碎,例如公开文献CN104517804B、CN104934309B、CN105428220A、CN112475627A。然而现有技术仅关注了切割去除时的晶圆破碎问题,并未关注在切割前晶圆定位过程中的破损问题,以及在有切割膜贴附情况下定位不精准的技术问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,在太鼓环去除工艺步骤中防止晶圆在定位过程中破损。
本发明提供一种太鼓环去除方法,包括:
步骤S1,采用太鼓工艺对晶圆进行加工减薄,将所述晶圆的中间部分减薄至预设厚度,所述晶圆的边缘部分形成太鼓环;
步骤S2,将所述晶圆固定至框架上;
步骤S3,将所述框架放置在切割设备台盘上,使用定位装置对所述晶圆进行定位;
所述定位装置包括相机,控制单元,移动单元;所述相机拍摄所述晶圆多个不同边缘的照片;所述控制单元利用所述照片信息计算所述晶圆的中心位置,并计算与切割所需要的预设中心位置的偏差;所述移动单元在所述控制单元控制下,移动所述框架,使所述晶圆的中心位置移动至切割所需要的预设中心位置;所述移动单元移动所述框架时,仅与所述框架接触连接;
步骤S4,将所述太鼓环切割去除。
优选地,所述步骤S2中,通过贴附切割膜将所述晶圆固定至所述框架上,所述切割膜的一面与所述框架接触贴附,另一面与所述晶圆的非减薄面接触贴附。
优选地,所述切割膜的直径稍大于所述晶圆的直径。
优选地,所述步骤S3中,所述移动单元采用吸附方式与所述框架连接。
优选地,所述步骤S4中采用激光切割的方式去除所述太鼓环。
本发明还提供一种用于太鼓环去除的定位装置,包括:
包括相机,控制单元和移动单元;
所述相机用以拍摄晶圆指定位置照片,所述控制单元用以获取所述相机拍摄的照片信息,计算晶圆的定位偏差,控制所述移动单元移动;
所述移动单元包括机械臂和驱动单元,所述机械臂用于连接框架,与框架的接触固定点位于所述框架上,所述驱动单元在所述控制单元的控制下,驱动机械臂在切割设备台盘上移动将所述晶圆定位。
优选地,所述相机至少为1台,所述晶圆指定位置为所述晶圆的边缘。
优选地,所述定位偏差由所述控制单元通过计算所述晶圆当前的中心位置,然后与预设中心位置比较获得。
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