[发明专利]输送装置及其供料方法

权利要求书

1.一种输送装置，用以输送多个处理元件，其特征在于，包括：

一输送带，包括一第一工作位置以及一第二工作位置，用以依据一供料模式将所述多个处理元件由该第一工作位置朝向该第二工作位置依序移动；

一供料机构，设置于该输送带的前端，以一供料速度提供所述多个处理元件至该输送带；以及

多个侦测器，包括一第一侦测器以及一第二侦测器，设置于该输送带的该第一工作位置与该第二工作位置之间，以侦测该输送带上于该第一侦测器及该第二侦测器所对应的位置是否存在所述多个处理元件，该第一侦测器用以确认该输送带上的所述多个处理元件是否过多，该第二侦测器用以确认该输送带上的所述多个处理元件是否不足，该供料模式依据该第一侦测器及该第二侦测器的一侦测结果被调整。

2.如权利要求1所述的输送装置，其特征在于，该第一侦测器设置于该第一工作位置及该第二工作位置之间，该第二侦测器设置于该第二工作位置及该第一侦测器之间，其中当该侦测结果为该第二侦测器侦测到存在该处理元件并且该第一侦测器侦测到不存在该处理元件时，该供料模式为一常规模式。

3.如权利要求2所述的输送装置，其特征在于，当该侦测结果为该第一侦测器侦测到存在该处理元件与该第二侦测器侦测到存在该处理元件时，该供料模式为一减速模式，该常规模式的该供料速度大于该减速模式的该供料速度。

4.如权利要求3所述的输送装置，其特征在于，当该侦测结果为该第一侦测器及该第二侦测器侦测到皆不存在该处理元件时，该供料模式为一加速模式，该常规模式的该供料速度小于该加速模式的该供料速度。

5.如权利要求4所述的输送装置，其特征在于，所述多个侦测器还包括一第三侦测器，设置于该输送带的该第一工作位置及该第一侦测器之间。

6.如权利要求5所述的输送装置，其特征在于，当该侦测结果为该第一侦测器、该第二侦测器及该第三侦测器皆侦测到存在该处理元件时，该供料模式为一满料模式，该满料模式的该供料速度为零。

7.如权利要求4所述的输送装置，其特征在于，该输送带还包括一调控单元，用以依据该供料模式调控所述多个处理元件移动到该第一工作位置或该第二工作位置的一供料比例。

8.如权利要求7所述的输送装置，其特征在于，该供料模式为该常规模式时，该调控单元供应该处理元件移动到该第一工作位置及该第二工作位置的该供料比例为1:1。

9.如权利要求7所述的输送装置，其特征在于，该供料模式为该减速模式时，该调控单元供应该处理元件移动到该第一工作位置及该第二工作位置的该供料比例为1:0。

10.如权利要求7所述的输送装置，其特征在于，该供料模式为该加速模式时，该调控单元供应该处理元件移动到该第一工作位置及该第二工作位置的该供料比例为1:2。

11.一种输送装置的供料方法，适用于输送多个处理元件，其特征在于，包括：

依据一供料模式使所述多个处理元件由一第一工作位置向一第二工作位置依序移动；

取得一第一侦测器及一第二侦测器所侦测是否存在所述多个处理元件的一侦测结果，其中该第一侦测器及该第二侦测器对应侦测该第一工作位置及该第二工作位置之间，依据该第二侦测器的该侦测结果以确认所述多个处理元件是否不足，依据该第一侦测器的该侦测结果以确认所述多个处理元件是否过多；以及

依据该侦测结果调整该供料模式。

12.如权利要求11所述的输送装置的供料方法，其特征在于，该依据该侦测结果调整该供料模式步骤中还包括：

基于该第二侦测器侦测到存在该处理元件并且该第一侦测器侦测到不存在该处理元件，该供料模式为一常规模式，其中该第一侦测器设置于该第一工作位置及该第二工作位置之间，并且该第二侦测器对应侦测该第二工作位置及该第一侦测器之间。