[发明专利]一种光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法有效
申请号: | 202110414176.1 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113160098B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 吴世军;郅慧;陈玉璐;阮永蔚;杨灿军 | 申请(专利权)人: | 浙江大学;中国船舶重工集团公司第七一五研究所 |
主分类号: | G06T5/40 | 分类号: | G06T5/40;G06T5/00;G06T7/11;G06T7/194;G06T7/155 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 颜果 |
地址: | 310013 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光照 不均匀 条件下 密集 微粒 图像 处理 方法 | ||
1.一种光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)提取图像中由于光照不均产生的不均匀背景;
2)去除图像中的不均匀背景;
3)判断图像中是否存在喷口,所述喷口为原始提取图像的白色区域;若否,则执行步骤4);若是,则执行步骤5);
4)对图像逐列进行直方图均衡化处理,再转入步骤6);
5)先对喷口所在的列进行分段直方图均衡化处理,再对其他列进行直方图均衡化;
6)对图像逐行进行二值化处理;
步骤6)中,对图像逐行进行二值化处理时,对于不包含喷口的行中,每一行的a个像素点,可以得到每一个灰度级在该行中所占的概率pi:
pi=ni/a;i=0,1,...,255
其中,ni是灰度级i在该行的像素数;
进而得到每个灰度级的概率分布函数F(x):
每一行中微粒所占像素点的概率为e,那么背景所占像素点的概率为1-e;从x=0开始计算F(x),直到x=x0时,满足F(x0)1-e,那么x0就是二值化的阈值;对于所有的灰度级x,令
即为每一行的二值化结果,不同行的x0不同;
7)得到最终图像。
2.根据权利要求1所述的光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法,其特征在于,步骤1)中,采用形态学处理中的开运算,首先根据图像的性质,创建一个半径一定的平坦形圆盘结构元素,然后使用该元素对原图先膨胀后腐蚀,得到平滑且不均匀的图像背景。
3.根据权利要求1所述的光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法,其特征在于,步骤2)中,去除背景后的图像的灰度矩阵I3=I1-I2,其中,I1是原图的灰度矩阵,I2是不均匀背景图像的灰度矩阵。
4.根据权利要求1所述的光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法,其特征在于,步骤4)中,对a*m个像素点的图像逐列进行直方图均衡化处理时,对于每一列Sk,k=0,1,...,a,可以得到每一个灰度级在该列的m个像素中所占的概率:
pi=ni/m;i=0,1,...,255
其中ni是灰度级i在该列的像素数;
从而得到该列的灰度级分布向量Pk1=(p0,p1,...,p255);然后对Pk1进行变换,得到新的灰度级分布向量Pk2=(p0’,p1’,...,p255’),Pk2即为直方图均衡化后的灰度级分布向量:
Pk2=Pk1·T
其中T为256x256的变换矩阵,得到的新灰度级分布向量Pk2各相邻元素之间的差异减小;
将概率分布转化为各个灰度级的个数:
ni’=pi’*m;i=0,1,...,255
然后基于新灰度级分布向量Pk2对该列上每个元素重新分配像素值,得到直方图均衡化后的列向量Sk’,记为:
Sk’=f(Sk)。
5.根据权利要求1所述的光照不均匀条件下密集微粒图像的处理方法,其特征在于,步骤5)中,对喷口所在的列进行分段直方图均衡化处理包括:
先找到喷口所在的列向量:对每个列向量中的像素进行判断,找到喷口所在的像素点,将整个列向量分为2部分,分别为非喷口区域和喷口区域;
然后对喷口区域赋值为255,对非喷口区域进行直方图均衡化,得到新的列向量。
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