[发明专利]基板处理装置及方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

操作台部；

转轴部，以能够旋转的方式安装于所述操作台部，并且使放置于所述转轴部的基板旋转；

第一处理部，安装于所述操作台部，并且向所述基板喷射第一干燥物质；以及

第二处理部，安装于所述操作台部，并且向已喷射所述第一干燥物质的所述基板喷射第二干燥物质。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一处理部包括：

第一处理储存部，储存所述第一干燥物质；

第一处理引导部，以能够旋转的方式安装于所述第一处理储存部，并且引导所述第一干燥物质；

第一处理旋转部，使所述第一处理引导部旋转；以及

第一处理喷嘴部，形成于所述第一处理引导部，并且对所述第一干燥物质进行排出。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二处理部包括：

第二竖直喷嘴部，沿着竖直方向排出所述第二干燥物质；以及

第二倾斜喷嘴部，沿着倾斜方向排出所述第二干燥物质。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述第二竖直喷嘴部到达所述基板上的位置与所述第二倾斜喷嘴部到达所述基板上的位置相同。

5.一种基板处理方法，其特征在于，包括：

准备步骤，对安装于操作台部的第一处理部和第二处理部向放置于转轴部并旋转的基板喷射第一干燥物质和第二干燥物质进行准备；

喷射步骤，所述第一处理部向所述基板喷射所述第一干燥物质，所述第二处理部向已喷射所述第一干燥物质的所述基板喷射所述第二干燥物质；以及

恢复步骤，使所述第一处理部和所述第二处理部向原位置移动。

6.根据权利要求5所述的基板处理方法，其特征在于，所述准备步骤包括：

第一处理部准备步骤，使所述第一处理部移动，以向所述基板的中心部喷射所述第一干燥物质；以及

第二处理部准备步骤，将所述第二处理部配置成与所述第一处理部邻近。

7.根据权利要求5所述的基板处理方法，其特征在于，所述喷射步骤包括：

第一处理部喷射步骤，从所述基板的中心部向边缘喷射所述第一干燥物质；

第二处理部中心喷射步骤，如果完成了对于所述基板的中心部的所述第一干燥物质的喷射，则向所述基板的中心部喷射所述第二干燥物质；

第二处理部倾斜喷射步骤，向从所述基板的中心部向边缘已喷射所述第一干燥物质的所述基板喷射所述第二干燥物质；以及

第二处理部边沿喷射步骤，向所述基板的边缘喷射所述第二干燥物质。

8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，所述第一处理部喷射步骤包括：

第一设定步骤，所述第一处理部在第一设定时间期间向所述基板的中心部喷射所述第一干燥物质；

第二设定步骤，所述第一处理部在第二设定时间期间进行移动从而从所述基板的中心部脱离；

第三设定步骤，所述第一处理部在第三设定时间期间进行移动，并且喷射所述第一干燥物质直到到达所述基板的边缘为止。

9.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，在所述第二处理部中心喷射步骤中，所述第二处理部在第四设定时间期间沿着所述基板的垂直方向，向所述基板的中心部喷射所述第二干燥物质。

10.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，在所述第二处理部中心喷射步骤中，所述基板以第二转速进行旋转。

11.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，在所述第二处理部倾斜喷射步骤中，所述第二处理部在第五设定时间期间沿着所述基板的倾斜方向喷射所述第二干燥物质。