[发明专利]具有碟型反射面的天线测量系统在审

专利信息
申请号: 202110383067.8 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN114910708A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 周锡增;邱志伟;林昭和 申请(专利权)人: 周锡增
主分类号: G01R29/10 分类号: G01R29/10;G01R29/08
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 侯奇慧
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 碟型 反射 天线 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种天线测量系统,其特征在于,包含:

一天线阵列,该天线阵列包含呈直线排列的多个天线单元,该多个天线单元中任何相邻两天线单元相隔一预定间距,且该多个天线单元中每一天线单元具有一辐射体以及一馈入点;

一反射碟面阵列,包括至少一反射碟面,沿着一宽度或高度方向紧邻排列与接合,该反射碟面阵列用以根据该天线阵列发出的信号产生一反射信号;以及

一测量面,用以对该反射信号进行一测量操作。

2.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列的宽度或高度根据该至少一反射碟面中多个反射碟面的数量来调整,其中该多个反射碟面沿该宽度或高度方向拼接,该多个反射碟面拼接后的总宽度与高度分别作为该反射碟面阵列的宽度与高度。

3.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列相对于该天线阵列呈现一个维度的一反射抛物面。

4.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列沿着一深度方向的深度值通过以下公式计算:

其中z为该深度值,y为该反射抛物面沿着一高度方向的高度值,fy为该天线阵列与该反射抛物面的焦距值,其中该高度方向、该宽度方向以及该深度方向彼此垂直。

5.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域的几何尺寸大于或等于该测量面的几何尺寸的二分之一。

6.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域与该反射抛物面之间的距离为1.5至2.5倍fy

7.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域内的振幅涟波小于±0.5dB,相位误差小于±5度。

8.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该测量操作包含:

根据该每一天线单元所引发的射频信号能量计算该反射碟面阵列的辐射场;以及

根据该辐射场来决定要馈入该每一天线单元的该馈入点的优化振幅以及优化相位。

9.如权利要求8所述的天线测量系统,其特征在于,该测量操作另包含:

将该反射抛物面被分为多个区块,以分别测量该多个区块各自的辐射场。

10.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该辐射体包含一第一导电部、一第二导电部以及一第三导电部,该第一导电部由一第一延伸部、一第一弯曲部以及一第一弯折部所构成,且该第二导电部由一第二延伸部、一第二弯曲部以及一第二弯折部所构成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于周锡增,未经周锡增许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110383067.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top