[发明专利]具有碟型反射面的天线测量系统在审
申请号: | 202110383067.8 | 申请日: | 2021-04-09 |
公开(公告)号: | CN114910708A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 周锡增;邱志伟;林昭和 | 申请(专利权)人: | 周锡增 |
主分类号: | G01R29/10 | 分类号: | G01R29/10;G01R29/08 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 侯奇慧 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 碟型 反射 天线 测量 系统 | ||
1.一种天线测量系统,其特征在于,包含:
一天线阵列,该天线阵列包含呈直线排列的多个天线单元,该多个天线单元中任何相邻两天线单元相隔一预定间距,且该多个天线单元中每一天线单元具有一辐射体以及一馈入点;
一反射碟面阵列,包括至少一反射碟面,沿着一宽度或高度方向紧邻排列与接合,该反射碟面阵列用以根据该天线阵列发出的信号产生一反射信号;以及
一测量面,用以对该反射信号进行一测量操作。
2.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列的宽度或高度根据该至少一反射碟面中多个反射碟面的数量来调整,其中该多个反射碟面沿该宽度或高度方向拼接,该多个反射碟面拼接后的总宽度与高度分别作为该反射碟面阵列的宽度与高度。
3.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列相对于该天线阵列呈现一个维度的一反射抛物面。
4.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该反射碟面阵列沿着一深度方向的深度值通过以下公式计算:
其中z为该深度值,y为该反射抛物面沿着一高度方向的高度值,fy为该天线阵列与该反射抛物面的焦距值,其中该高度方向、该宽度方向以及该深度方向彼此垂直。
5.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域的几何尺寸大于或等于该测量面的几何尺寸的二分之一。
6.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域与该反射抛物面之间的距离为1.5至2.5倍fy。
7.如权利要求3所述的天线测量系统,其特征在于,该测量面具有一测量静域,该测量静域内的振幅涟波小于±0.5dB,相位误差小于±5度。
8.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该测量操作包含:
根据该每一天线单元所引发的射频信号能量计算该反射碟面阵列的辐射场;以及
根据该辐射场来决定要馈入该每一天线单元的该馈入点的优化振幅以及优化相位。
9.如权利要求8所述的天线测量系统,其特征在于,该测量操作另包含:
将该反射抛物面被分为多个区块,以分别测量该多个区块各自的辐射场。
10.如权利要求1所述的天线测量系统,其特征在于,该辐射体包含一第一导电部、一第二导电部以及一第三导电部,该第一导电部由一第一延伸部、一第一弯曲部以及一第一弯折部所构成,且该第二导电部由一第二延伸部、一第二弯曲部以及一第二弯折部所构成。
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