[发明专利]基板架结构及包括该基板架结构的蒸镀装置在审
| 申请号： | 202110375187.3 | 申请日： | 2021-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113174563A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 段廷原;张铢仓 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12;C23C14/50 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杜蕾 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板架 结构 包括 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种基板架结构，其特征在于，包括：
能够旋转的主轴；
缓冲层，套接于所述主轴上；
密封层，套接于所述缓冲层上；
多个第一密封环，套接于所述主轴上且位于所述主轴和所述缓冲层之间；以及
多个第二密封环，套接于所述缓冲层且位于所述缓冲层和所述密封层之间。
2.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，所述缓冲层固定于所述主轴上，以与所述主轴同时旋转。
3.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，还包括冷却板，所述冷却板设置于所述主轴的一端，以用于固定和冷却基板。
4.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，所述缓冲层的厚度范围为0.5mm到2mm。
5.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，所述缓冲层的表面粗糙度小于0.2um。
6.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，所述第一密封环和所述第二密封环为O型圈。
7.根据权利要求6所述基板架结构，其特征在于，所述O型圈的压缩率大于5％。
8.根据权利要求1所述基板架结构，其特征在于，所述第二密封环的数量大于所述第一密封环的数量。
9.根据权利要求8所述基板架结构，其特征在于，所述第二密封环的数量大于5个。
10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的基板架结构。
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