[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征为，

具备：放置台，呈板状且可旋转；

多个支撑部，设置于所述放置台的一个面且可支撑基板；

冷却部，能够向所述放置台与被所述支撑部所支撑的所述基板的背面之间的空间供给冷却气体；

液体供给部，能够向所述基板的与所述背面相反一侧的表面供给液体；

及至少1个突起部，固定设置于所述放置台的一个面，俯视观察时沿着所述基板的设置区域的边界线延伸。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，

当俯视观察时，所述突起部的至少一部分与所述基板发生重叠，

在所述突起部的顶部与所述基板的背面之间可形成间隙。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，

当俯视观察时，所述突起部的至少一部分与所述基板发生重叠，

所述突起部的顶部的至少一部分与所述基板的背面可发生接触。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，

所述基板的平面形状为四角形，

当俯视观察时，所述突起部并不设置在所述基板的角的位置。

5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征为，

所述基板的平面形状为四角形，

当俯视观察时，所述突起部并不设置在所述基板的角的位置。

6.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征为，

所述基板的平面形状为四角形，

当俯视观察时，所述突起部并不设置在所述基板的角的位置。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，通过从被所述放置台、所述基板的背面、所述突起部所围住的空间介由间隙流出的所述冷却气体的流出阻力以及所述间隙的开口大小以及所述间隙的位置的至少任意一个，可控制被冷却的所述基板的温度分布。

8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征为，通过从被所述放置台、所述基板的背面、所述突起部所围住的空间介由间隙流出的所述冷却气体的流出阻力以及所述间隙的开口大小以及所述间隙的位置的至少任意一个，可控制被冷却的所述基板的温度分布。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，

所述基板的平面形状为四角形，

当俯视观察时，在所述基板的一个角的附近与邻接于该角的角的附近之间，所述突起部沿着所述基板的周缘延伸。

10.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征为，当俯视观察时，在所述基板的一个角的附近与邻接于该角的角的附近之间，所述突起部沿着所述基板的周缘延伸。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，

所述基板的平面形状为四角形，

当俯视观察时，所述突起部沿着所述基板的边延伸。

12.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征为，当俯视观察时，所述突起部沿着所述基板的边延伸。

13.根据权利要求1～12中任意一项所述的基板处理装置，其特征为，当俯视观察时，所述突起部设置在所述基板的设置区域的内侧。

14.根据权利要求1～12中任意一项所述的基板处理装置，其特征为，当俯视观察时，所述突起部的一部分设置在所述基板的设置区域的内侧，所述突起部的其余部分设置在所述基板的设置区域的外侧。

15.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征为，当俯视观察时，所述突起部设置在所述基板的设置区域的外侧。