[发明专利]一种金属圆柱缺陷参数检测方法及系统在审
申请号: | 202110346950.X | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113075289A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 毛雪飞;郭金路;陈振;刘向东 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01N27/90 | 分类号: | G01N27/90 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 韩雪梅 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 圆柱 缺陷 参数 检测 方法 系统 | ||
1.一种金属圆柱缺陷参数检测方法,其特征在于,包括:
确定待测金属圆柱对应的阻抗增量扫描曲线;
对所述阻抗增量扫描曲线进行处理以获取所述阻抗增量扫描曲线对应的的特征向量;
将所述特征向量输入到金属圆柱缺陷参数检测模型中以确定所述金属圆柱的缺陷参数;所述缺陷参数包括缺陷宽度、缺陷深度以及缺陷形状;
其中,所述金属圆柱缺陷参数检测模型是根据特征向量数据集和神经网络确定的;所述特征向量数据集包括多组缺陷实际参数以及每组所述缺陷实际参数对应的第一特征向量;所述第一特征向量是根据所述缺陷实际参数对应的金属圆柱的阻抗增量扫描曲线确定的;所述缺陷实际参数包括缺陷实际宽度、缺陷实际深度以及缺陷实际形状。
2.根据权利要求1所述的一种金属圆柱缺陷参数检测方法,其特征在于,所述确定待测金属圆柱对应的阻抗增量扫描曲线,具体包括:
获取无损金属圆柱对应的检测阻抗信号;
确定待测金属圆柱对应的检测阻抗信号;
根据所述无损金属圆柱对应的检测阻抗信号和所述待测金属圆柱对应的检测阻抗信号,确定待测金属圆柱对应的阻抗增量扫描曲线。
3.根据权利要求2所述的一种金属圆柱缺陷参数检测方法,其特征在于,所述确定待测金属圆柱对应的检测阻抗信号,具体包括:
选用正弦信号作为检测线圈的激励信号,采用电涡流无损检测技术对所述待测金属圆柱进行测量,以获取所述待测金属圆柱的检测阻抗信号。
4.根据权利要求1所述的一种金属圆柱缺陷参数检测方法,其特征在于,所述对所述阻抗增量扫描曲线进行处理以获取所述阻抗增量扫描曲线对应的的特征向量,具体包括:
基于最小二乘法的多项式曲线拟合原理,对所述阻抗增量扫描曲线进行处理,进而确定所述阻抗增量扫描曲线对应的的特征向量。
5.一种金属圆柱缺陷参数检测系统,其特征在于,包括:
阻抗增量扫描曲线确定模块,用于确定待测金属圆柱对应的阻抗增量扫描曲线;
特征向量确定模块,用于对所述阻抗增量扫描曲线进行处理以获取所述阻抗增量扫描曲线对应的的特征向量;
缺陷参数确定模块,用于将所述特征向量输入到金属圆柱缺陷参数检测模型中以确定所述金属圆柱的缺陷参数;所述缺陷参数包括缺陷宽度、缺陷深度以及缺陷形状;
其中,所述金属圆柱缺陷参数检测模型是根据特征向量数据集和神经网络确定的;所述特征向量数据集包括多组缺陷实际参数以及每组所述缺陷实际参数对应的第一特征向量;所述第一特征向量是根据所述缺陷实际参数对应的金属圆柱的阻抗增量扫描曲线确定的;所述缺陷实际参数包括缺陷实际宽度、缺陷实际深度以及缺陷实际形状。
6.根据权利要求5所述的一种金属圆柱缺陷参数检测系统,其特征在于,所述阻抗增量扫描曲线确定模块,具体包括:
第一检测阻抗信号获取单元,用于获取无损金属圆柱对应的检测阻抗信号;
第二检测阻抗信号确定单元,用于确定待测金属圆柱对应的检测阻抗信号;
阻抗增量扫描曲线确定单元,用于根据所述无损金属圆柱对应的检测阻抗信号和所述待测金属圆柱对应的检测阻抗信号,确定待测金属圆柱对应的阻抗增量扫描曲线。
7.根据权利要求6所述的一种金属圆柱缺陷参数检测系统,其特征在于,所述第二检测阻抗信号确定单元,具体包括:
第二检测阻抗信号确定子单元,用于选用正弦信号作为检测线圈的激励信号,采用电涡流无损检测技术对所述待测金属圆柱进行测量,以获取所述待测金属圆柱的检测阻抗信号。
8.根据权利要求5所述的一种金属圆柱缺陷参数检测系统,其特征在于,所述特征向量确定模块,具体包括:
特征向量确定单元,用于基于最小二乘法的多项式曲线拟合原理,对所述阻抗增量扫描曲线进行处理,进而确定所述阻抗增量扫描曲线对应的的特征向量。
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