[发明专利]一种低电阻率的透明导电膜及显示幕墙

说明书

本发明提出了一种低电阻率的透明导电膜及显示幕墙，所述低电阻率的透明导电膜包括透明聚酰亚胺薄膜和形成在透明聚酰亚胺薄膜上的铜导电膜层。本发明所述透明导电膜是通过在透明聚酰亚胺薄膜上形成铜导电膜层获得，基于改善铜导电膜层中铜微粒的分散性并抑制铜微粒的氧化，由此形成一种电阻率低且耐久性高的透明导电膜，可有效应用于显示幕墙的开发中。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种低电阻率的透明导电膜及显示幕墙。

背景技术

幕墙是建筑物的外墙护围，不承重，像幕布一样挂上去，故又称为悬挂墙，是现代大型和高层建筑常用的带有装饰效果的轻质墙体。目前来说，现有的玻璃幕墙并不具有照明或显示屏的功能，但如果把建筑的一面做成显示屏，则建筑的整个墙面又会被显示屏完全遮蔽，无法采光。因此如何制备出一种不影响幕墙采光，又能实现显示的功能玻璃幕墙屏，这成为现代玻璃幕墙建造技术和显示屏技术的一个新课题。

目前，透明导电膜由于具有良好的导电性，且在可见光波波段具有高透明光率而被广泛应用。如果将该透明导电膜结合到LED显示屏的设计时，其显然就同时具有了透光和显示的效果，如此也就不会影响到墙面的采光问题。最终可以在不影响幕墙采光的前提下，赋予幕墙以显示功能。

现有的透明导电膜中，虽然，基于氧化铟锡(ITO)的透明导电膜由于足够低的薄层电阻和高光学透明度而被广泛使用，然而，由于ITO存在易于在柔性基底上开裂的缺点，且铟作为一种稀有金属存在含量低、提取困难、成本高昂等问题，局限了其应用。近年来，关于ITO替代材料的研究主要集中在超薄金属膜等材料上，这里铜金属膜因其具有导电、价格低廉等优点被广泛使用。由于铜相对其他贵金属，具有易氧化的性质，因此由铜所制备的导电膜由于被氧化而很容易导致体积电阻率升高等问题。基于此，寻找一种氧化铟锡透明导电膜的替代导电膜具有重要意义。

发明内容

基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种低电阻率的透明导电膜及显示幕墙，该透明导电膜是通过在透明聚酰亚胺薄膜上形成铜导电膜层获得，基于改善铜导电膜层中铜微粒的分散性并抑制铜微粒的氧化，由此形成一种电阻率低且耐久性高的透明导电膜，可有效应用于显示幕墙的开发中。

本发明提出的一种低电阻率的透明导电膜，包括透明聚酰亚胺薄膜和形成在透明聚酰亚胺薄膜上的铜导电膜层。

优选地，所述铜导电膜层是通过在透明聚酰亚胺薄膜上涂布由铜微粒构成的分散液，再固化形成。

优选地，所述分散液包括铜微粒、聚多巴胺修饰碳纳米管和环氧树脂胶液。

优选地，所述铜微粒、聚多巴胺修饰碳纳米管和环氧树脂胶液的重量比为10:0.02-0.2:1-2。

优选地，所述铜微粒为粒径不大于1μm的纳米铜粉。

优选地，所述聚多巴胺修饰碳纳米管是通过将碳纳米管加入到多巴胺碱性溶液中反应得到。

优选地，所述环氧树脂胶液包括环氧树脂、固化剂和活性稀释剂。

优选地，所述环氧树脂为双酚A型环氧树脂或酚醛环氧树脂；所述固化剂为二氨基二苯基砜DDS或二氨基二苯基甲烷DDM；所述活性稀释剂为正丁基缩水甘油醚BGE或苯基缩水甘油醚PGE。

优选地，所述铜导电膜层的厚度为0.5-5μm。

本发明提出一种显示幕墙，其包括上述的透明导电膜和位于上述透明导电膜上的LED发光组。