[发明专利]光调制器在审
| 申请号： | 202110341709.8 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN115145059A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 长瀬健司;田家裕;A·R·M·宾拉奥;王进武 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035;G02F1/03 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 调制器 | ||
1.一种光调制器，其特征在于，
具有：
基板；
形成于所述基板上的多个电光材料层；以及
形成于所述电光材料层上的电极，
所述电光材料层具有施加调制信号并图形化的RF部波导和施加直流偏压信号并图形化的DC部波导，
在垂直于光的传播方向的截面上，所述RF部波导经由比所述RF部波导的宽度宽的连接部波导而连接于所述DC部波导。
2.根据权利要求1所述的光调制器，其特征在于，
所述RF部波导的高度为与所述连接部波导的高度同等的高度。
3.根据权利要求1或2所述的光调制器，其特征在于，
所述连接部波导的宽度为所述RF部波导的宽度的10倍以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光调制器，其特征在于，
所述连接部波导以同等的宽度与所述DC部波导连续并在所述基板上延伸。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光调制器，其特征在于，
在所述DC部波导的与所述基板侧相反侧的上表面，形成有从所述上表面突出并沿与所述RF部波导的延伸方向同一方向延伸的突出部，
所述突出部的宽度方向的中心线与所述RF部波导的宽度方向的中心线位于同一直线上。
6.根据权利要求5所述的光调制器，其特征在于，
所述突出部的所述RF部波导侧的端部朝向所述RF部波导侧逐渐变低。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的光调制器，其特征在于，
在所述DC部波导的与所述基板侧相反侧的上表面，形成有沿与所述RF部波导的延伸方向同一方向延伸的槽，
所述槽的宽度方向的中心线与所述RF部波导的宽度方向的中心线位于同一直线上。
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