[发明专利]一种超反射镜及其设计方法和制备方法

权利要求书

1.一种超反射镜的设计方法，其特征在于，包括步骤：

基于模块法，将所述超反射镜设置为基底和多个周期薄膜；

将所述周期薄膜设置为多个周期，各所述周期由碳层和铂层沉积形成；

在沿远离所述基底的方向上，按能量逐渐减小的方式在所述基底上交替沉积碳层和铂层以沉积形成多个的所述周期薄膜，并将所述超反射镜最外层设置为铂层，其中在沿远离所述基底的方向上，多个所述周期薄膜的周期数呈减小的趋势，多个所述周期薄膜的厚度呈减小的趋势，多个所述周期薄膜的周期厚度呈增大的趋势，所述周期厚度为各所述周期的厚度；

通过控制调整所述周期的碳层和铂层的厚度比例以及周期厚度的方式，控制在所述基底上沉积形成的所述周期薄膜能够反射的能量大小，所述周期薄膜的周期厚度为：22～80Å，各所述周期中的铂层的厚度比例为：0.35～0.57。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述周期薄膜的周期数为：1～18，所述周期数为所述周期薄膜包括的所述周期的数量。

3.一种基于权利要求1或2所述的超反射镜的设计方法制备得到的超反射镜，其特征在于，所述超反射镜具有基底和沉积在基片上多个周期薄膜，各所述周期薄膜由碳层和铂层交替沉积形成，所述超反射镜的最外层为铂层。

4.根据权利要求3所述的超反射镜，其特征在于，在沿远离所述基底的方向上，多个所述周期薄膜呈能量减小的趋势，多个所述周期薄膜的周期数呈减小的趋势，多个所述周期薄膜的厚度呈减小的趋势，多个所述周期薄膜的周期厚度呈增大的趋势，所述周期厚度为所述周期薄膜包括的各周期的厚度。

5.一种根据权利要求3或4所述的超反射镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、清洗基底；

S2、采用X射线衍射仪测试周期薄膜的周期厚度，进而标定出镀膜速率；以及

S3、在工作真空为5×10^-2Pa的环境下，基于所述X射线仪测试得到的所述周期薄膜的周期厚度，采用直流磁控溅射机器以碳层和铂层交替沉积的方式在所述基底上镀膜形成多个所述周期薄膜，制得所述超反射镜。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤S1具体包括步骤：

S11、采用粗糙度小于0.2nm的熔石英基片作为所述基底；

S12、将所述熔石英基片用电阻率大于18MΩ的高纯水浸泡2～10分钟；

S13、通过超声波清洗的方式清洗5～10分钟；以及

S14、离心1～3分钟甩干所述熔石英基片，其中离心速率为2000转/分钟。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3中，镀碳层时的溅射功率为150W，镀铂层时的溅射功率为50W。

8.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3中，通入氩气使得工作真空达到5×10^-2Pa，其中氩气的通入量为15sccm。